MEMS 웨이퍼 건조 히터
석판 위에서 웨이퍼는 세척 공정을 거친 뒤 건조 공정으로 넘어갑니다. 만약 특정 부분의 온도가 너무 높아지거나 낮아지면, 포토레지스트 패턴이 손상될 수 있습니다. 이를 방지하기 위해 우리는 MEMS 웨이퍼용 건조 히터를 개발했습니다. 이 업계에서는 예외를 둘 수 없기...
와이퍼 산화 가열 소자
열적 제한은 단순한 권고사항이 아니라, 반드시 준수해야 할 한계입니다. 산화 과정에서 온도가 0.5도만 벗어나거나, 오븐의 특정 부분이 너무 뜨겁고 다른 부분은 너무 차가운 경우, 이는 웨이퍼의 두께 변화나 선의 폭 변동, 그리고 생산율 저하로 금방 나타납니다. 이러...
리필 램프를 사용한 빠른 건조 웨이퍼
생산 라인에서는 세척 후에 시간을 낭비할 여유가 없습니다. 남아 있는 물은 불순물을 유발하고, 포토레지스트의 건조를 방해하여, 리소그래피 공정이 시작되기 전부터 수율 저하를 초래합니다. 회전식 건조 과정은 처리 속도를 늦추고, 불필요한 변동성을 야기합니다. 우리는 이...