למה אנו משתמשים בייבוש באמצעות קרינת אינפרא-אדום לחומרים ללא עופרת
כאשר מייבשים שבבי חיישני MEMS, יש בעיה מיוחדת: יש צורך להיפטר מכל טיפת לחות וחומר ממס, אך אי אפשר להשאיר שום שארית. בנוסף, אי אפשר לחמם את השבב יותר מדי – אחרת הכל יהרס.
לכן אנו משתמשים בייבוש באמצעות קרינת אינפרא-אדום. במקום לחמם את האוויר, קרינת האינפרא-אדום שולחת אנרגיה ישירות אל החומר. אין צורך בתנורים עם אוויר חם, ואין צורך בחומרים כימיים מסוכנים.
הקסם של ייבוש באמצעות אינפרא-אדום
הייבוש המסורתי הוא איטי. לעומת זאת, קרינת האינפרא-אדום פועלת במהירות – היא גורמת למולקולות המים להתרגש מיד. זה מהיר מאוד.
היתרון הגדול? אין יותר את הבעיה של ייבוש מהיר מדי של השכבה העליונה, מה שגורם ללחות להישאר בתוך השבב. בנוסף, מכיוון שהחום מופנה למקום הנכון, שאר החדר נשאר קר. זה יחסוך לכם הרבה כסף על חשמל.
שמירה על ניקיון וסביבה ירוקה
התעשייה עוזבת סוף-סוף את החומרים המכילים עופרת ואת החומרים הכימיים המזהמים. ייבוש באמצעות קרינת אינפרא-אדום מתאים לשינוי זה, מכיוון שזו שיטה “יבשה”. אין צורך להשתמש בחומרים כימיים או להפיק חום באמצעות שריפת חומרים. זו פשוט אנרגיה חשמלית שהופכת לקרינה. עבור מי שמנהל חדר נקי, זו הקלה גדולה – אין שום סיכון לזיהום.
איזון החום
לא כל דבר הוא פשוט. צריך להיות זהירים. חימומים בעלי עוצמה גבוהה טובים לשמירה על קצב ייצור גבוה, אך צריך לשלוט בעוצמת החום. אם העוצמה גבוהה מדי, השבב עלול להינזק. צריך לאזן בין עוצמת החימום לבין מהירות ההעברה של השבבים.
בדרך כלל אנו משתמשים בבקרי PID כדי שהטמפרטורה לא תעלה יותר מדי. בלי שליטה טובה במתח החשמלי, השבב עלול להתחמם יותר מדי.
טיפ נוסף: ודאו שמאווררי הקירור אכן מורידים את החום ממקום החימום. אם המכשיר פועל 24/7, זו הדרך היחידה למנוע חימום יתר של החומרים.