На поверхні платформи знаходиться кристал діаметром 12 дюймів, який чекає на процедуру обробки фотополімером. Важливо пам’ятати: навіть незначна зміна температури на поверхні може призвести до проблем з контролем товщини ліній та якістю продукції. Тож необхідно, щоб тепло поширювалося швидко, ефективно, без створення жодних вібрацій чи заворушень на поверхні.
Що є важливим з технічної точки зору
Наші лампи короткохвильового інфрачервоного випромінювання передають тепло прямо в фотополімер та основу матеріалу – без необхідності очікування на процес конвекції. Максимальна інтенсивність випромінювання в цьому діапазоні спрямована на ефективне поглинання світла органічними шарами та кремнієм. Тож можна досягти бажаної температури менш ніж за 30 секунд. Рівномірність температури по всій поверхні кристала залишається в межах ±0,1°C, а повторюваність результатів – в межах ±0,2°C між окремими процедурами обробки.
Умови чистої кімнати класу 1–100 також зберігаються. Кварцовий корпус та геометрія відбивача розроблені так, щоб запобігти потраплянню частинок у процес обробки. Ефективність ламп залишається стабільною протягом понад 5 000 годин, зі зниженням ефективності менше ніж на 5%.
Чому це ефективно в літографії
У процесі літографії процедура „м’якого” нагрівання визначає профіль розчинника; процедура „жорсткого” нагрівання фіксує форму зображення. За допомогою ламп короткохвильового інфрачервоного випромінювання можна ефективно видалити розчинник, не пошкоджуючи шар матеріалу. Це дозволяє уникнути виникнення стоячих хвиль та інших проблем. Швидка реакція ламп зменшує час очікування між процедурами обробки, що сприяє скороченню часу виконання завдань, при цьому зберігається контроль за критичними параметрами.
Нагрів відбувається лише за потреби, а не постійно, тож споживання енергії зменшується. Це призводить до меншої кількості необхідних корекцій, стабільної якості продукції та можливості планування енергоспоживання.
На що потрібно звернути увагу
Під час встановлення ламп важливо забезпечити правильну оптичну налаштуваність та правильну відстань між елементами. Якщо це не буде дотримано, можуть виникнути „гарячі точки“. Інтенсивність випромінювання ламп висока, тож захист оператора є обов’язковим.
Лампи підходять для стандартних інтерфейсів напівпровідникового обладнання, але при їх інтеграції необхідно враховувати питання відведення відпрацьованих газів, охолодження та стабільності напруги. Якщо все це буде дотримано, рівномірність температури залишатиметься в межах необхідних значень.