Op de stenen vloer komt het wafer uit het spoelproces en gaat het naar het droogproces. Eén plek met te hoge temperatuur of een kleine afwijking in de temperatuur kan er al voor zorgen dat het patroon van de fotorezistent beschadigd raakt. We hebben een speciale verwarmingseenheid ontwikkeld om dit te voorkomen – want in deze branche mag je geen uitzonderingen maken.
Wat belangrijk is bij het drogen We gebruiken kortegolf-infraroodlicht met kwartshalogeenemitter. Dit zorgt voor snelle, gerichte warmteafgifte met minimale vertragingen. De temperatuurovereenstemming over het hele wafer blijft bij ±0,1°C, en de herhaalbaarheid van de instellingen ligt binnen ±0,5°C. Hierdoor wordt elke droogcyclus precies volgens de specificaties uitgevoerd. Het ontwerp van de apparatuur is zo gemaakt dat deze geschikt is voor gebruik in steriele omgevingen: er worden passieve materialen gebruikt op het apparaat en de luchtcirculatie is zo ontworpen dat er nauwelijks deeltjes vrijkomen. Hierdoor kan de apparatuur worden gebruikt in omgevingen met een sterielheidsniveau van 1–100. De apparatuur houdt de uitstoot stabiel, met een gemiddelde levensduur van meer dan 5.000 uur tussen onderhoudsbeurten, zonder onverwachte stilstand.
Waarom dit belangrijk is voor MEMS Bij MEMS draait het niet alleen om het verwijderen van water. Het gaat er ook om de integriteit van de componenten te behouden, zowel voor als na het proces. Deze verwarmingseenheid droogt het wafer snel, zonder dat de temperatuur te hoog wordt. Hierdoor blijft het patroon van de fotorezistent intact en wordt herwerken verminderd. Goede thermische controle zorgt er ook voor dat de hittebehoefte wordt beperkt, waardoor gevoelige lagen beschermd blijven en de controle over de afmetingen verbetert. Het resultaat is minder defecten, een hogere productiegraad en consistente cyclustijden. Omdat de emitters efficiënt zijn en de warmte gericht wordt afgegeven, wordt er minder energie verspild in de kamer – waardoor de energieverbruik wordt verminderd.
Wat je moet overwegen bij de installatie Je moet ervoor zorgen dat de mechanische eigenschappen van de apparatuur overeenkomen met die van de kamer. Wij leveren de benodigde tekeningen en specificaties, maar jij moet zelf controleren of de hoeveelheid koelmiddel en de invoertemperatuur optimaal zijn. Anders loop je het risico dat de apparatuur te heet wordt. De apparatuur presteert het beste wanneer de druk in de kamer en de samenstelling van het gas binnen de vereiste grenzen blijven. Tijdens de integratie moet je eerst een korte test uitvoeren om de uniformiteit te controleren en om het droogproces aan te passen aan je eigen waferstack.