Di fasiliti pembuatan cip ini, anda tidak boleh membiarkan air tertinggal pada permukaan wafer setelah proses pencucian. Air yang tersisa akan menarik partikel-partikel tertentu, dan menyebabkan lapisan fotorezistan menjadi kurang efektif. Ini akan mengakibatkan penurunan kualiti wafer sebelum proses litografi pun bermula. Proses pengeringan menggunakan putaran memakan masa yang lama, sehingga mengurangkan kecepatan pengeluaran wafer. Kita telah mencipta lampu pengeringan yang cepat untuk mengurangkan masa yang diperlukan dan memastikan permukaan wafer tetap utuh.
Apa yang penting di belakang tabir
Kami menggunakan sinar inframerah berfrekuensi rendah dan sederhana yang disesuaikan agar mampu menyerap air dengan cepat. Dengan cara ini, tenaga tersebut dapat sampai ke permukaan wafer tanpa perlu sentuhan langsung. Di kawasan aktif wafer, keseragaman suhu terjaga dalam lingkup ±0.1°C, sehingga lapisan-lapisan pada wafer tidak terganggu. Keseragaman suhu antara setiap proses produksi juga terjaga dalam lingkup ±0.5°C, sehingga proses pemanasan wafer berjalan dengan lancar.
Alat ini sesuai digunakan di bilik bersih berkelas 1 hingga 100. Kami telah memastikan bahawa tidak ada partikel yang dihasilkan, bahkan hingga 0.1 mikron atau lebih kecil. Di lapangan, lampu ini beroperasi 24/7 tanpa gangguan, dan stabilitas keluarannya tetap stabil pada tahap 2% selama lebih dari 5,000 jam.
Mengapa alat ini berguna di fasiliti pembuatan cip
Segera setelah proses pencucian, lampu ini akan mengeringkan air pada permukaan wafer dalam beberapa saat saja. Wafer dapat langsung dikirim ke alat pemanasan untuk proses fotorezistan, tanpa adanya titik-titik air atau garis-garis pada permukaannya. Ini mempercepat waktu proses pemanasan wafer dan mengurangi pemakaian energi.
Karena suhu awalnya sudah kering dan seragam, proses pemanasan wafer akan berjalan lebih efisien. Anda akan mendapatkan kontrol yang lebih baik terhadap ketebalan lapisan wafer, serta selektivitas etching yang lebih baik. Hasilnya adalah jumlah wafer yang dihasilkan per jam meningkat, dan limbah yang dihasilkan akibat kelembapan berkurang.
Realiti di lapangan
Lampu ini memerlukan sumber daya listrik sebesar 24 VDC yang sesuai untuk digunakan di bilik bersih, serta sistem pendingin yang efektif. Ada kit modifikasi yang tersedia untuk platform pemanas utama. Penyesuaian posisi wafer dilakukan dengan presisi tinggi, yaitu ±0.5 mm. Oleh itu, sebaiknya biarkan insinyur lapangan yang melakukan pengaturan awal.
Sebelum mulai menggunakan alat ini, luangkan waktu sekitar 30 menit untuk melakukan uji coba guna memastikan keseragaman suhu sesuai dengan spesifikasi wafer yang digunakan.