Mengapa Kita Beralih kepada Kaedah Pengeringan menggunakan Cahaya Inframerah untuk Cip Tanpa Plumbum
Cara kita menghasilkan semikonduktor sedang berubah. Kita kini meninggalkan kaedah pengeringan yang menggunakan pelarut serta bahan yang mengandungi plumbum. Bagi kita, ini bermakna kita perlu menggunakan kaedah pengeringan menggunakan cahaya inframerah.
Perbezaan utamanya ialah cahaya inframerah bertindak secara langsung pada permukaan wafer. Bayangkan oven konveksi – kita perlu memanaskan seluruh udara di dalam bilik tersebut untuk mencapai suhu yang diinginkan. Ini merupakan pembaziran masa dan tenaga. Sebaliknya, lampu inframerah memancarkan tenaga secara langsung ke tempat yang diperlukan. Cara ini lebih efisien dan cepat.
Prinsip sainsnya (dijelaskan secara mudah)
Inilah cara ia berfungsi: kita menyesuaikan spektrum pancaran lampu dengan apa yang dapat diserap oleh bahan wafer. Dengan menggunakan pancaran gelombang pendek atau sederhana, kita dapat memanaskan lapisan perekat atau fotoresist dalam masa beberapa saat sahaja.
Kita tidak perlu menunggu oven besar mencapai suhu tertentu. Semuanya berlaku secara spontan.
Aspek mesra alam
Aspek mesra alamnya ialah penggunaan kaedah ini dapat mengurangkan penggunaan bahan kimia berbahaya seperti VOC. Tenaga inframerah dapat mengurus proses polimerisasi dan penguapan dengan sendirinya. Kita tidak perlu lagi menggunakan katalis kimia yang mengandungi logam berat. Ini menjadikan prosesnya lebih bersih.
Cabaran yang perlu dihadapi
Namun, kaedah ini bukanlah sesuatu yang mudah digunakan. Jika kita beralih ke kaedah ini, kita perlu memikirkan semula cara pengurusan haba. Lampu inframerah menghasilkan banyak haba dalam ruang yang kecil. Jika sistem penyejukan tidak berfungsi dengan baik, ia boleh merosakkan permukaan wafer atau soket lampu. Ia memerlukan keseimbangan yang tepat.
Itulah sebabnya kami sentiasa mengesyorkan penggunaan pengawal PID yang tepat. Kita tidak boleh membiarkan kuasa lampu melonjak secara tiba-tiba, kerana ia boleh merosakkan lapisan tipis pada wafer sebelum kita sedar.
Kelebihan kaedah ini
Yang terbaik ialah sistem ini boleh dipasang di tempat yang sama dengan sistem pengudaraan lama. Ini membolehkan kita mendapatkan lebih banyak ruang, dan bil elektrik juga akan berkurangan. Selain itu, kerana tiada udara panas yang tersebar ke mana-mana, kita tidak perlu risau tentang zarah-zarah yang boleh merosakkan permukaan wafer. Semuanya tetap bersih. Prosesnya menjadi lebih lancar.