생산 라인에서는 세척 후에 시간을 낭비할 여유가 없습니다. 남아 있는 물은 불순물을 유발하고, 포토레지스트의 건조를 방해하여, 리소그래피 공정이 시작되기 전부터 수율 저하를 초래합니다. 회전식 건조 과정은 처리 속도를 늦추고, 불필요한 변동성을 야기합니다. 우리는 이러한 문제를 해결하기 위해 빠르게 건조되는 웨이퍼용 램프를 개발했습니다.
중요한 요소들 우리는 물의 흡수 특성에 맞춰짜인 단파 및 중파 적외선을 사용하여 에너지가 빠르고 비접촉식으로 전달되도록 합니다. 작동 영역 전체에서 웨이퍼의 온도 균일성은 ±0.1°C 이내로 유지되어, 스트레스를 받지 않는 필름층을 보호할 수 있습니다. 한 번의 작업에서 다음 작업으로 넘어갈 때의 온도 반복성도 ±0.5°C 이내로 유지되므로, 소프트 베이크와 하드 베이크 과정도 안정적으로 진행됩니다.
이 장비는 클래스 1부터 클래스 100까지의 청정실에서도 사용할 수 있으며, 0.1마이크론 이하의 불순물도 전혀 발생하지 않는 것으로 확인되었습니다. 실제 작업 환경에서는 이 램프가 24시간 연속으로 작동하며, 계획되지 않은 다운타임도 전혀 없습니다. 5,000시간 이상 사용해도 출력 안정성은 2% 이내로 유지됩니다.
생산 라인에서의 장점 세척 직후에 램프가 몇 초 만에 웨이퍼 표면의 물을 제거해줍니다. 그래서 웨이퍼를 바로 호트플레이트로 보낼 수 있으며, 물방울이나 자국이 생기지 않습니다. 이를 통해 코팅 공정의 시간이 단축되고, 불필요한 열 처리 단계도 생략됩니다.
건조된 상태에서 시작되는 열 처리 과정 덕분에 소프트 베이크와 하드 베이크 과정이 더욱 정확해집니다. 그 결과, 웨이퍼당 생산량이 증가하고, 습기로 인한 폐기물도 줄어듭니다.
실제 사용 환경 이 램프는 청정실에서 사용할 수 있는 24V DC 전원과 챔버 냉각을 위한 전용 배기 시스템이 필요합니다. 주요 코팅 기계에도 이를 적용할 수 있는 컨버전 키트가 있습니다. 웨이퍼 척과의 정렬 정밀도도 ±0.5mm로 매우 높으므로, 초기 설정은 현장 엔지니어가 담당해야 합니다.
작동하기 전에는 30분간의 테스트를 통해 온도 균일성을 확인하는 것이 좋습니다.