Hentikan penggunaan pemanas biasa, dan gunakan metode pemanasan yang lebih efektif untuk substrat Anda.
Jika Anda pernah bekerja dengan karbon nanotube (CNT), Anda pasti tahu betapa sulitnya mengendalikan suhu saat memanaskan bahan tersebut. Kebanyakan orang hanya menggunakan oven biasa untuk memanaskannya, tetapi hal ini sama saja dengan mencoba memanaskan satu potong pizza dengan cara memanaskan seluruh ruangan. Ini merupakan pemborosan energi. Lebih buruk lagi, hal ini akan membuat bagian dalam peralatan semikonduktor menjadi sangat panas. Tidak ada yang ingin bekerja di lingkungan yang begitu panas, hanya karena substrat perlu mencapai suhu tertentu.
Itulah sebabnya kami beralih ke metode pemanasan inframerah terarah.
Bagaimana cara kerjanya?
Bayangkanlah hal ini seperti lampu senter, bukan pemanas ruangan. Sementara konveksi hanya mendorong udara panas ke segala arah, lampu inframerah mengirimkan radiasi elektromagnetik secara lurus. Energi tersebut ditujukan langsung ke zona pertumbuhan CNT. Panasnya akan tetap berada di sana. Karena dinding peralatan tidak berada dalam “garis pandang” lampu, maka dinding tersebut tetap dingin. Dengan demikian, Anda dapat mendapatkan panas yang diperlukan untuk proses deposisi uap kimia (CVD), tanpa harus menjadikan seluruh laboratorium menjadi semacam “sauna”.
Bagian yang sulit: Menyeimbangkan daya pemanasan
Ketika menggunakan lampu inframerah berdaya tinggi, situasinya menjadi rumit. Banyak sekali energi yang dimasukkan ke dalam ruang kecil. Kami menggunakan emitor gelombang pendek karena energi tersebut dapat menembus substrat dengan cepat. Hal ini mencegah panas merambat ke bagian lain dari peralatan. Intinya adalah perhitungan yang tepat mengenai titik fokus agar panasnya tepat menuju tempat yang seharusnya.
Namun, Anda tidak bisa meningkatkan daya pemanasan secara berlebihan. Jika terlalu banyak energi yang dimasukkan ke dalam ruang kecil, substrat bisa rusak atau lampunya bisa hangus. Anda perlu memastikan bahwa sistem pendinginan mampu menangani beban panas tersebut, agar panas tidak merambat ke tempat yang seharusnya tidak panas.
Mengapa hal ini memudahkan pekerjaan?
Yang terbaik adalah ketika dinding peralatan tidak memancarkan panas. Dengan demikian, para petugas dapat masuk ke dalam peralatan untuk melakukan perawatan atau memasukkan wafer, tanpa harus menghadapi suhu yang sangat tinggi. Hal ini tentu saja memudahkan pekerjaan. Selain itu, metode ini memberikan kontrol yang lebih baik dibandingkan menggunakan oven biasa. Anda dapat mengatur suhu substrat sesuai keinginan, tanpa perlu memikirkan apa yang terjadi pada dinding peralatan. Itulah rahasianya untuk mendapatkan pertumbuhan CNT yang seragam di seluruh permukaan wafer.