Di lantai pabrik pengolahan silikon, kecacatan akibat proses pemotongan menggunakan laser jarang terjadi saat laser mulai bekerja. Kecacatan tersebut justru muncul lebih awal—ketika suhu substrat terlalu rendah, posisi substrat tidak rata, atau substrat berada di luar rentang suhu yang ditentukan oleh fotoresist. Hal ini menyebabkan munculnya kerusakan berupa retakan di pinggiran silikon, serta perbedaan ukuran celah hasil pemotongan antar baris. Kami membuat pemanas khusus untuk menjaga suhu tetap terkendali, sehingga hasil pemotongan selalu sesuai standar setiap kali proses berlangsung.
Yang penting secara teknis:
Kita membutuhkan keseragaman suhu pada tingkat wafer sebesar ±0,1°C di seluruh area yang dipanaskan. Selain itu, titik suhu yang diinginkan harus tetap konstan dari satu proses ke proses berikutnya. Badan pemanas ini dirancang untuk digunakan di lingkungan cleanroom kelas 1–100, dan dirancang sedemikian rupa sehingga tidak menghasilkan partikel apa pun, sehingga tidak ada risiko kontaminasi antar proses. Pemanas ini juga dapat diintegrasikan ke dalam platform pemotongan laser dengan antarmuka mekanis yang baik dan sambungan listrik yang kokoh. Pemanas ini dapat beroperasi 24/7 dengan reliabilitas yang tinggi, sesuai dengan standar produksi massal.
Mengapa hal ini penting?
Proses pemotongan menggunakan laser sangat sensitif terhadap suhu. Jika suhu wafer terlalu rendah, energi laser yang diserap akan menyebabkan tekanan termal pada lapisan film dan substrat, sehingga menyebabkan kerusakan. Sebaliknya, jika suhu wafer terlalu tinggi, fotoresist akan melembut dan pinggirannya akan melengkung, sehingga mengubah bentuk celah hasil pemotongan. Pemanas ini berfungsi untuk menstabilkan suhu wafer di titik pemotongan, sehingga integritas fotoresist terjaga dan konsistensi celah hasil pemotongan tetap terjaga. Dengan demikian, jumlah produk yang gagal berkurang, biaya perbaikan berkurang, dan kapasitas produksi pun meningkat.
Beberapa hal praktis yang perlu diperhatikan:
Pemasangan pemanas ini bergantung pada arah aliran gas dan saluran pembuangan udara. Jika hal ini tidak dilakukan dengan benar, akan terjadi perbedaan suhu di sepanjang tepi wafer. Pemanas ini dapat mencapai titik suhu yang diinginkan dengan cepat, tetapi proses penyeimbangan suhu masih bergantung pada desain alat dan massa termal ruang produksi. Oleh karena itu, perlu dilakukan verifikasi terhadap seluruh komponen, bukan hanya pemanasnya saja. Bahan-bahan yang digunakan memang cocok untuk digunakan di lingkungan cleanroom, tetapi selama proses pelibatan bahan-bahan kimia, masih diperlukan prosedur operasi yang ketat.