Di fasilitas produksi, Anda tidak boleh membuang waktu setelah proses pencucian selesai. Air yang tersisa akan menarik partikel-partikel ke permukaan wafer, sehingga mengakibatkan penurunan kualitas lapisan fotoresist. Hal ini tentu saja akan berdampak negatif pada hasil produksi, bahkan sebelum proses litografi dimulai. Proses pengeringan menggunakan alat khusus membutuhkan waktu yang lama, sehingga mengurangi efisiensi produksi dan menambah variabilitas yang tidak diinginkan. Kami telah menciptakan lampu pengering yang cepat agar waktu pengeringan bisa dikurangi, sehingga permukaan wafer tetap utuh.
Apa yang penting dalam penggunaan alat ini?
Alat ini menggunakan sinar inframerah berfrekuensi pendek dan sedang, yang disesuaikan dengan tingkat penyerapan air. Dengan demikian, energi yang digunakan dapat sampai ke permukaan wafer dengan cepat dan tanpa kontak langsung. Di area yang aktif, keseragaman suhu pada wafer tetap terjaga pada kisaran ±0,1°C, sehingga lapisan-lapisan yang ada pada wafer tetap terlindungi dari gangguan. Rekabetivitas suhu antar sesi produksi juga tetap terjaga pada kisaran ±0,5°C, sehingga proses pemanasan wafer tetap akurat.
Alat ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1 hingga kelas 100. Kami telah memastikan bahwa alat ini tidak menghasilkan partikel apa pun, bahkan hingga ukuran 0,1 mikron atau lebih kecil. Dalam penggunaan sehari-hari, alat ini dapat beroperasi 24/7 tanpa adanya henti operasi yang tidak terduga. Stabilitas output alat ini juga tetap terjaga pada kisaran 2% selama lebih dari 5.000 jam.
Mengapa alat ini cocok digunakan di fasilitas produksi?
Segera setelah proses pencucian selesai, alat ini dapat menghilangkan air dari permukaan wafer dalam hitungan detik. Wafer pun dapat langsung dikirim ke alat pemanas untuk proses pematangan lapisan fotoresist, tanpa adanya tetesan air atau noda di permukaannya. Hal ini mempersingkat waktu proses produksi dan mengurangi konsumsi energi karena tidak perlu melalui proses pemanasan yang berlebihan.
Karena suhu awalnya sudah stabil, maka proses pemanasan wafer pun menjadi lebih efektif. Kontrol ketebalan lapisan wafer pun menjadi lebih baik, sehingga selektivitas proses etching juga meningkat. Hasilnya, jumlah wafer yang dihasilkan per jam meningkat, dan jumlah wafer yang rusak akibat kelembapan berkurang.
Realitas penggunaan di lapangan
Alat ini membutuhkan pasokan daya sebesar 24 VDC yang sesuai standar ruang bersih, serta sistem pendingin khusus. Ada kit modifikasi yang tersedia untuk berbagai platform pembersih wafer. Penyetelan posisi alat terhadap wafer harus sangat akurat, yaitu ±0,5 mm. Oleh karena itu, sebaiknya biarkan insinyur lapangan yang menangani proses penyetelan awalnya.
Sebelum mulai menggunakan alat ini, rencanakan waktu sekitar 30 menit untuk melakukan proses kalibrasi suhu, agar keseragaman suhu dapat diketahui sesuai dengan jenis wafer yang digunakan.