Fırın on The Infrared Heating Hub

Temiz oda fırını kızılötesi ısıtıcı

Mon, 27 Jul 2026 09:25:10 +0800

Wafer fırınlarınızda enerji israfını durdurun
Temiz bir odada enerji israfı sadece elektrik faturası açısından sorun oluşturmaz; aynı zamanda baş ağrısına da neden olur. Silikon waferleri ısıtırken, hedefe ulaşmayan tüm ısılar boşa gider. Ancak bu ısılar tamamen yok olmaz; etrafa saçılır ve fırının yapısını bozar veya soğutma sistemlerinin alarmlarını tetikler. Bu sorunu çözmek için kızılötesi ısıtıcıların üzerine yüksek yansıtıcılığa sahip altın kaplamalar ekledik.

Neden altın?
Çoğu kişi alüminyum yansıtıcılar kullanır; ancak alüminyum, kızılötesi enerjinin büyük bir kısmını emer. Bu da verimliliği düşürür. Altın ise farklıdır; kızılötesi ışığı bir ayna gibi yansıtır. Böylece fotonlar her yöne saçılmak yerine doğrudan waferlere ulaşır. Bu sayede her voltajda daha fazla ısı elde edilir. Yani voltajı artırmanıza veya daha güçlü lambalar kullanmanıza gerek kalmaz. Bu çok daha akıllıca bir çözümdür.

Yarı iletken litografisi fırın lambası

Fri, 03 Jul 2026 15:31:08 +0800

Litografi işlemlerinde, foto-resistin pişirilmesi sadece isteğe bağlı bir işlem değildir; bu işlem, ürün kalitesini belirleyen kritik bir faktördür. Eğer yumuşak pişirme sıcaklığı düzgün olmazsa ya da sert pişirme işlemi düzgün şekilde gerçekleşmezse, boyut hataları ve kalitesiz ürünler ortaya çıkar. Fırının lambası, üretim hacmi boyunca termal dengeyi sağlayamazsa, işlem verimliliği düşer.

Önemli olan detaylar
Litografi fırınlarımızda kısa dalga boylu halojen ve NIR optimizasyonlu kuvars elemanlar kullanılır. Böylece hızlı termal tepki ve sabit radyasyon çıkışı elde edilir. Sistem, pişirme bölgesinde ±0,1°C’lik termal dengeyi sağlayacak şekilde ayarlanmıştır. Ayrıca, her işlem sonrasında kritik ölçülerin standardlarda kalması sağlanır.

Yüksek sıcaklıklı fırın fab laboratuvarı için

Mon, 01 Jun 2026 20:46:51 +0800

Zemin seviyesinde, fotoresist fırınlama sırasında 1°C’lik bir değişim “hat kalınlığı kayması” değildir. Bu, çok fazla hurda anlamına gelir. İleri teknoloji düğümler, derece kesirlerine bağlıdır ve fırın buna kesinlikle uyum sağlamalıdır.

Teknik olarak önemli olan Yüksek sıcaklıklı fırını ±0.1°C setpoint-üzeri wafer uniformitesi esas alınarak tasarladık ve bu, tüm fırınlama profilinde—yumuşak fırınlamadan sert fırınlamaya kadar—sabit kalır. Sıcak bölge kuvars içermez, düşük gaz çıkışı sağlar ve kapalı hava akışı kullanır; böylece Class 1–100 temiz oda koşulları altında partikül oluşumu sıfırda tutulur.