เตาเผาอุณหภูมิสูงสำหรับห้องปฏิบัติการการผลิต

Mon, 01 Jun 2026 20:46:51 +0800

บนพื้นโรงงาน การเปลี่ยนอุณหภูมิ 1°C ระหว่างการอบ photoresist ไม่ใช่แค่ “การเปลี่ยนแปลงความกว้างเส้น” แต่หมายถึงการเสียของจำนวนมาก โหนดขั้นสูงต้องการความแม่นยำในระดับเศษส่วนองศา เตาอบต้องรักษาความแม่นยำนี้อย่างเคร่งครัด

สิ่งที่สำคัญในเชิงเทคนิค
เราออกแบบเตาอบอุณหภูมิสูงโดยเน้นความสม่ำเสมอของอุณหภูมิระหว่างจุดตั้งค่าและ wafer ที่ ±0.1°C และรักษาค่านี้ได้ตลอดโปรไฟล์การอบ ตั้งแต่ soft bake จนถึง hard bake โซนความร้อนไม่มีควอตซ์ ปล่อยก๊าซต่ำ และใช้ระบบไหลเวียนอากาศแบบปิดเพื่อให้การเกิดอนุภาคเป็นศูนย์ภายใต้ข้อจำกัดของห้องสะอาด Class 1–100

ความแม่นยำของอุณหภูมิระหว่างแต่ละรอบการผลิตถูกล็อคไว้ที่ ±0.05°C ทำให้สแต็คลิโธกราฟีของคุณอยู่ในมาตรฐานซ้ำแล้วซ้ำเล่าในแต่ละล็อตและกะการทำงาน ระบบควบคุมถูกปรับแต่งให้เซ็ตตัวได้รวดเร็วโดยมีการโอเวอร์ชูตน้อยที่สุด เพื่อปกป้อง photoresist ชั้นบางและชั้นใต้เคลือบในช่วงเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิ

เหตุผลที่ใช้งานได้จริง
คุณต้องการความแม่นยำด้านความร้อนระดับผลิตภัณฑ์ แต่ในเครื่องมือขนาดเบนช์ที่สามารถรองรับล็อตนำร่องได้ เตาอบนี้ช่วยเสถียรขั้นตอนการอบที่เป็นสาเหตุของความแปรปรวนของ CD และข้อบกพร่องรูพรุน โดยเฉพาะเมื่อความไม่สม่ำเสมอทางความร้อนแสดงออกมาในรูปแบบ “ความลอยตัวลึกลับ”

คุณจะได้อัตราผลผลิตรอบแรกสูงขึ้น ลดการแก้ไขซ้ำ และเวลาวงจรที่สามารถวางแผนได้ การใช้พลังงานถูกจัดการด้วยการฉนวนหนาและตรรกะการทำงานแบบ duty-cycle ซึ่งลดต้นทุนการดำเนินงานโดยไม่สูญเสียความเสถียรของอุณหภูมิ

สิ่งที่ต้องรู้
การติดตั้งต้องการวงจรไฟฟ้าเฉพาะและการเชื่อมต่อท่อไอเสียที่ได้รับการตรวจสอบ เตาอบดึงกระแสไฟสูงเมื่อขึ้นอุณหภูมิ และจะรักษาควบคุมอย่างเข้มงวดได้ก็ต่อเมื่อแหล่งจ่ายไฟสะอาดและเสถียร

คาดว่าจะต้องใช้เวลารวดเร็วสำหรับการบูรณาการที่ไซต์เพื่อปรับพารามิเตอร์สูตรให้เข้ากับสแต็คเรซิสต์ของคุณ เมื่อเปิดใช้งานแล้ว จะทำงานโดยมีการแทรกแซงน้อยที่สุด—ตรวจสอบการทำแผนที่ความร้อนทุกไตรมาส และรักษาตารางการเปลี่ยนกรองให้อยู่ในเกณฑ์ที่กำหนดไว้

Temp on The Infrared Heating Hub

เตาเผาอุณหภูมิสูงสำหรับห้องปฏิบัติการการผลิต