<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>МЭМС on The Infrared Heating Hub</title>
		<link>http://ir-heating-hub.com/ru/tags/%D0%BC%D1%8D%D0%BC%D1%81/</link>
		<description>Recent content in МЭМС on The Infrared Heating Hub</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 17 Jul 2026 08:07:32 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-hub.com/ru/tags/%D0%BC%D1%8D%D0%BC%D1%81/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагреватель для сушки пластин с датчиками MEMS</title>
				<link>http://ir-heating-hub.com/ru/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Fri, 17 Jul 2026 08:07:32 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-hub.com/ru/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Нагреватель для сушки пластин с датчиками MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Почему мы используем инфракрасное высыхание для производства безсвинцовых полустандартных компонентов&lt;br&gt;&#xA;При сушке пластин с датчиками MEMS возникает сложная проблема: необходимо устранить каждую каплю влаги и растворителя, но в то же время нельзя оставлять ни малейших следов остатков. К тому же нельзя использовать слишком высокую температуру, иначе вся конструкция будет разрушена.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Именно поэтому мы используем инфракрасное высыхание. Вместо того чтобы нагревать всю комнату, инфракрасные лампы направляют энергию прямо на поверхность материала. Нет необходимости в использовании конвекционных печей или химических катализаторов.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Нагреватель для сушки пластин MEMS</title>
				<link>http://ir-heating-hub.com/ru/posts/mems-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-hub.com/ru/posts/mems-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Нагреватель для сушки пластин MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На литографическом столе пластина с фотополимерным слоем выходит из процедуры промывки и переходит на этап сушки. Одна лишняя точка нагрева или небольшое отклонение температуры могут привести к деформации структуры фотополимерного слоя. Мы разработали специальный нагреватель для сушки пластин в технологии MEMS, чтобы предотвратить такие ситуации — ведь в этой области не допускается никаких исключений.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что важно при работе устройства&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мы используем коротковолновое инфракрасное излучение от кварцево-галогеновых излучателей. Это позволяет получать быстрый и направленный нагрев с минимальной задержкой. Равномерность температуры по всей поверхности пластины сохраняется на уровне ±0,1°C, а точность установки температуры — на уровне ±0,5°C. Таким образом, каждая процедура сушки выполняется строго согласно заданным параметрам. Устройство разработано таким образом, чтобы функционировать в условиях чистой комнаты: на корпусе нагревателя используются пассивирующие материалы, а система вентиляции спроектирована так, чтобы сводить к минимуму выделение частиц. Благодаря этому устройство может работать в условиях класса &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;cleanliness&lt;/a&gt; 1–100. Устройство поддерживает стабильную мощность круглосуточно; согласно данным эксплуатации, время между плановым техническим обслуживанием составляет более 5,000 часов, при этом не возникает никаких неплановых простоев.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
