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		<title>Enxaguar on The Infrared Heating Hub</title>
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				<title>Wafer de secagem rápida após a lavagem com lâmpada</title>
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				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Wafer de secagem rápida após a lavagem com lâmpada&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na linha de &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;produ&lt;/a&gt;ção, não se pode permitir esperar após o processo de enxágue. Qualquer água residual atrai partículas e pode causar a perda de propriedades do fotoresistente. Isso já representa um risco de perda de produtividade, mesmo antes mesmo do início do processo de litografia. Os ciclos de secagem demoram muito tempo, reduzem a velocidade de produção e causam variabilidade que não é &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;necess&lt;/a&gt;ária. Criamos uma lâmpada de secagem rápida para diminuir esse tempo e manter a superfície do wafer intacta.&lt;/p&gt;</description>
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