Na linha de produção, não se pode permitir esperar após o processo de enxágue. Qualquer água residual atrai partículas e pode causar a perda de propriedades do fotoresistente. Isso já representa um risco de perda de produtividade, mesmo antes mesmo do início do processo de litografia. Os ciclos de secagem demoram muito tempo, reduzem a velocidade de produção e causam variabilidade que não é necessária. Criamos uma lâmpada de secagem rápida para diminuir esse tempo e manter a superfície do wafer intacta.
O que é importante por trás disso tudo Utilizamos radiação infravermelha de onda curta e média, ajustada para a absorção da água, de modo que a energia seja aplicada rapidamente e sem contato direto com a superfície do wafer. Na área ativa, a uniformidade térmica se mantém dentro de ±0,1°C, o que protege as camadas finas formadas sobre o wafer. A repetibilidade térmica entre diferentes execuções fica dentro de ±0,5°C, garantindo que os parâmetros de aquecimento permaneçam consistentes.
A ferramenta funciona em salas limpas de classe 1 a 100. Verificamos que não há geração de partículas menores que 0,1 micrômetro. Em campo, a lâmpada funciona 24/7, sem interrupções, e a estabilidade de desempenho permanece dentro de 2% ao longo de mais de 5.000 horas de uso.
Por que ela é útil na linha de produção Imediatamente após o enxágue, a lâmpada remove toda a água da superfície do wafer em segundos. Assim, é possível enviar o wafer diretamente para o forno de secagem do fotoresistente, sem nenhum problema. Isso reduz o tempo de processo e economiza energia, pois evita passos térmicos desnecessários.
Como o ponto de partida térmico é um valor seco e consistente, os processos de aquecimento tornam-se mais precisos. Isso resulta em melhor controle da espessura do filme e maior seleção durante o processo de etching. O resultado é maior número de wafers produzidos por hora, além de menor quantidade de produtos defeituosos devido à umidade.
Realidades de uso em campo A lâmpada precisa de um fornecimento de energia de 24 VDC, compatível com salas limpas, além de um sistema de ventilação dedicado para resfriamento da câmara. Existem kits de adaptação disponíveis para as principais plataformas de revestimento de wafers. A alinhamento com o suporte do wafer é preciso, dentro de ±0,5 mm. Portanto, é necessário ter um engenheiro especializado para realizar a configuração inicial.
Antes de começar a usar a lâmpada, reserve 30 minutos para realizar um teste de calibração, a fim de verificar a uniformidade térmica com base no seu wafer específico.