Uitdrogen on The Infrared Heating Hub

MEMS sensorwaferdroogheater

Fri, 17 Jul 2026 08:07:42 +0800

Waarom we infraroodverharding gebruiken voor legeemsemidstandaarden
Wanneer je MEMS-sensorwaferdroogt, kom je bij een lastig probleem. Je moet elk beetje vocht en oplosmiddel verwijderen, maar er mogen geen restanten achterblijven. Bovendien mag de wafer niet te veel worden verhit, anders wordt het geheel verwoest.

Daarom kiezen we voor infraroodverharding. In plaats van de lucht in een oven op te warmen, wordt de energie rechtstreeks in het materiaal gestuurd. Er zijn geen convectieovens nodig, geen afhankelijkheid van hete lucht, en ook geen rommelige chemische katalysatoren.

Goedkope lampbol voor het drogen van wafers

Sat, 04 Jul 2026 12:09:02 +0800

Infraroodlamp voor het drogen van chips: hoge prestaties, zonder hoge prijs

We hebben deze infraroodlamp ontworpen als een eenvoudige vervanging voor de dure geïmporteerde apparaten die je gewend bent te gebruiken. Je krijgt dezelfde prestaties als de duurdere modellen, maar dan zonder de hoge kosten. Het doel is om je kosten te verminderen, zonder dat je concessies moet doen op het gebied van productiekwaliteit.

Kracht en grootte: precies wat je nodig hebt

Voor precisiedroging is het belangrijk om de juiste hitte te hebben. Dat hangt af van de kracht en spanning van de lamp. Deze lamp werkt op 400V en gebruikt 2500W aan energie, over een buis van 300 mm lang. Dat betekent dat er veel hitte wordt geproduceerd in een klein gebied – precies wat nodig is om solventen snel van de chips te halen. Maar let op: deze hoge uitgangsspanning vereist dat het koelsysteem van de machine goed functioneert. Het gaat hier niet om een lamp die je zomaar in een stopcontact kunt steken. Hij heeft zijn eigen speciale hoogspanningscircuit nodig.

MEMS waferdroogheater

Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800

Op de stenen vloer komt het wafer uit het spoelproces en gaat het naar het droogproces. Eén plek met te hoge temperatuur of een kleine afwijking in de temperatuur kan er al voor zorgen dat het patroon van de fotorezistent beschadigd raakt. We hebben een speciale verwarmingseenheid ontwikkeld om dit te voorkomen – want in deze branche mag je geen uitzonderingen maken.

Wat belangrijk is bij het drogen We gebruiken kortegolf-infraroodlicht met kwartshalogeenemitter. Dit zorgt voor snelle, gerichte warmteafgifte met minimale vertragingen. De temperatuurovereenstemming over het hele wafer blijft bij ±0,1°C, en de herhaalbaarheid van de instellingen ligt binnen ±0,5°C. Hierdoor wordt elke droogcyclus precies volgens de specificaties uitgevoerd. Het ontwerp van de apparatuur is zo gemaakt dat deze geschikt is voor gebruik in steriele omgevingen: er worden passieve materialen gebruikt op het apparaat en de luchtcirculatie is zo ontworpen dat er nauwelijks deeltjes vrijkomen. Hierdoor kan de apparatuur worden gebruikt in omgevingen met een sterielheidsniveau van 1–100. De apparatuur houdt de uitstoot stabiel, met een gemiddelde levensduur van meer dan 5.000 uur tussen onderhoudsbeurten, zonder onverwachte stilstand.

Snel drogende wafer na spoellamp

Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800

Op de productiestage kun je het je niet veroorloven om na het spoelen te wachten. Elke resterende hoeveelheid water zorgt voor het ontstaan van deeltjes en kan leiden tot een verminderde werking van de fotorezuinstof. Hierdoor loop je al risico op verlies aan productie, nog voordat de lithografie zelf begint. De tijd die nodig is om de plaat te drogen, verlengt de productietijd en zorgt bovendien voor meer variabiliteit dan nodig is. We hebben een lamp ontwikkeld die de plaat snel kan drogen, zodat het oppervlak intact blijft.