<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Spoelen on The Infrared Heating Hub</title>
		<link>http://ir-heating-hub.com/nl/tags/spoelen/</link>
		<description>Recent content in Spoelen on The Infrared Heating Hub</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-hub.com/nl/tags/spoelen/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Snel drogende wafer na spoellamp</title>
				<link>http://ir-heating-hub.com/nl/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-hub.com/nl/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Snel drogende wafer na spoellamp&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productiestage kun je het je niet veroorloven om na het spoelen te wachten. Elke resterende hoeveelheid &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;water&lt;/a&gt; zorgt voor het ontstaan van deeltjes en kan leiden tot een verminderde werking van de fotorezuinstof. Hierdoor loop je al risico op verlies aan productie, nog voordat de lithografie zelf begint. De tijd die nodig is om de plaat te drogen, verlengt de productietijd en zorgt bovendien voor meer variabiliteit dan nodig is. We hebben een lamp ontwikkeld die de plaat snel kan drogen, zodat het oppervlak intact blijft.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
