Snel drogende wafer na spoellamp

Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800

Op de productiestage kun je het je niet veroorloven om na het spoelen te wachten. Elke resterende hoeveelheid water zorgt voor het ontstaan van deeltjes en kan leiden tot een verminderde werking van de fotorezuinstof. Hierdoor loop je al risico op verlies aan productie, nog voordat de lithografie zelf begint. De tijd die nodig is om de plaat te drogen, verlengt de productietijd en zorgt bovendien voor meer variabiliteit dan nodig is. We hebben een lamp ontwikkeld die de plaat snel kan drogen, zodat het oppervlak intact blijft.

Snelle verwarmingskachel

Sun, 31 May 2026 05:09:51 +0800

Introduction

Stel je dit voor: je schakelt een schakelaar om en direct is er warmte op de plek waar het nodig is. Geen wachttijd voor een langzame opwarming. Precies dat hebben we ontwikkeld.
We hebben het over snel opwarmende infraroodverwarmers, ontworpen voor industriële ruimtes waar een paar seconden vertraging het hele proces kunnen verstoren. De technologie achter die snelheid? Halogeen-gebaseerde infraroodtechniek. Het levert een warmtegolf die vrijwel direct voelbaar is.

What Makes It Tick

Het uitgangspunt is dit: het vermogen moet passen bij de toepassing. Deze verwarmers zijn gespecificeerd voor 400V, wat een krachtige output levert in een compact formaat.
De buizen zijn ongeveer 300mm lang. Dit zorgt ervoor dat de warmtebron precies daar zit waar hij nodig is — dicht bij het doel — zonder onnodige ruimte in te nemen. Het draait om het gericht inzetten van energie waar het telt. Die gerichte focus zorgt ervoor dat het oppervlak snel opwarmt en de infraroodoutput onmiddellijk is.

Snel on The Infrared Heating Hub

Snel drogende wafer na spoellamp

Snelle verwarmingskachel

Introduction

What Makes It Tick