Korte golf infraroodlamp voor IC

Sat, 27 Jun 2026 05:26:48 +0800

Op de productielijn ligt een wafer van 12 inch klaar om te worden verwerkt met behulp van fotoresist. De belangrijkheid van deze stap is duidelijk: zelfs een verschil van 1°C op het oppervlak kan er toe leiden dat de nauwkeurigheid en de kwaliteit van het eindproduct onder druk komen te staan. Wat nodig is, is hitte die snel wordt toegepast, zodat er geen ongewenste effecten optreden.

Wat technisch gezien belangrijk is Onze kortgolf-infraroodlampen zorgen ervoor dat de hitte rechtstreeks in de fotoresist en het substraat terechtkomt – er hoeft niet te worden gewacht op convectieprocessen. De piekemissie in het kortgolfgebied zorgt voor sterke absorptie door organische films en silicium. Hierdoor kan de gewenste temperatuur in minder dan 30 seconden bereikt worden. Over het hele oppervlak van de wafer blijft de uniformiteit binnen ±0,1°C, en de herhaalbaarheid is beter dan ±0,2°C tussen verschillende verwerkingscycli.

IC on The Infrared Heating Hub

Korte golf infraroodlamp voor IC