Wafer on The Infrared Heating Hub

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Sat, 25 Jul 2026 05:08:19 +0800

Menjaga Kebersihan Wafer Semasa Proses Pemanasan Berlangsung
Dalam persekitaran yang memerlukan pengeluaran dalam kuantiti yang besar, satu kegagalan kecil saja sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan proses pengeluaran. Jika tiub inframerah pecah, ia bukan sahaja akan menghentikan proses pemanasan, tetapi juga akan menyebabkan serpihan kuarza dan gas halogen jatuh ke atas wafer silikon tersebut. Ini merupakan situasi yang sangat buruk, yang boleh merosakkan seluruh batch wafer dalam masa beberapa saat sahaja.

Kami membina sistem pemanasan inframerah yang khusus untuk mencegah keadaan sedemikian daripada berlaku.

Pembalik cahaya untuk lampu pengeringan wafer

Thu, 23 Jul 2026 12:26:47 +0800

Cara yang Betul untuk Memproses Wafer: Rahsianya Terletak pada Reflektor

Jika anda bekerja dalam bidang pemprosesan wafer, anda pasti tahu betapa sukarnya tugas ini. Anda memerlukan gradien haba yang tepat agar proses pemprosesan dapat berjalan dengan baik. Untuk mencapai hal tersebut, kita menggunakan lampu inframerah gelombang pendek bersama-sama dengan reflektor yang khusus.

Dalam kilang pembuatan cip moden, semua orang bercakap tentang penggunaan haba yang dikawal melalui data. Namun itu hanyalah angan-angan semata-mata jika tenaga haba tersebut tersebar ke semua arah seperti air yang keluar dari penyiram yang rosak.

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Wed, 22 Jul 2026 05:09:05 +0800

Berhenti teka-teki mengenai suhu wafer anda

Jika anda ingin membina fasiliti pengeluaran yang canggih, anda perlu meninggalkan penggunaan termokopel konvensional. Alat tersebut sudah tidak lagi efektif untuk tujuan ini. Untuk mengukur suhu wafer, kita menggunakan sensor inframerah berkelajuan tinggi. Dengan cara ini, kita dapat memperoleh maklumat suhu secara masa nyata, tanpa perlu menyentuh permukaan wafer itu sendiri.

Jika anda ingin agar “digital twin” anda mencerminkan keadaan sebenar di dunia nyata, anda memerlukan aliran data berfrekuensi tinggi secara berterusan. Penggunaan sensor tanpa sentuhan merupakan satu-satunya cara untuk mendapatkan data tersebut.

Pemanas wafer yang cekap dari segi tenaga

Mon, 20 Jul 2026 12:05:48 +0800

Mengapa Kita Beralih kepada Kaedah Pengeringan menggunakan Cahaya Inframerah untuk Cip Tanpa Plumbum
Cara kita menghasilkan semikonduktor sedang berubah. Kita kini meninggalkan kaedah pengeringan yang menggunakan pelarut serta bahan yang mengandungi plumbum. Bagi kita, ini bermakna kita perlu menggunakan kaedah pengeringan menggunakan cahaya inframerah.

Perbezaan utamanya ialah cahaya inframerah bertindak secara langsung pada permukaan wafer. Bayangkan oven konveksi – kita perlu memanaskan seluruh udara di dalam bilik tersebut untuk mencapai suhu yang diinginkan. Ini merupakan pembaziran masa dan tenaga. Sebaliknya, lampu inframerah memancarkan tenaga secara langsung ke tempat yang diperlukan. Cara ini lebih efisien dan cepat.

Penderia IR yang tepat untuk kegunaan pada wafer.

Sun, 19 Jul 2026 17:03:37 +0800

Apabila lampu IR rosak, segalanya akan menjadi kacau balau

Dalam dunia pengeluaran semikonduktor, kerosakan pada lampu IR bukan sekadar “masalah teknikal” atau gangguan sementara. Ia merupakan bencana sebenar. Bayangkanlah jika kulit luar lampu tersebut pecah di tengah-tengah proses pengeluaran yang sedang berlangsung. Serpihan kaca dan gas halogen akan jatuh terus ke atas wafer-wafer tersebut. Dengan itu, keseluruhan produk yang dihasilkan akan menjadi tidak berguna. Ia merupakan situasi yang sangat kacau, dan tentunya memerlukan kos yang tinggi untuk memperbaikinya.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Fri, 17 Jul 2026 08:07:41 +0800

Mengapa kita menggunakan kaedah pengeringan inframerah untuk komponen tanpa plumbum
Ketika mengeringkan wafer sensor MEMS, kita menghadapi masalah yang rumit. Kita perlu membuang setiap titik kelembapan dan pelarut yang ada, tetapi pada masa yang sama kita tidak boleh meninggalkan sebarang sisa bahan tersebut. Selain itu, kita juga tidak boleh menggunakan haba yang berlebihan, kerana itu akan merosakkan wafer tersebut.

Itulah sebabnya kita menggunakan kaedah pengeringan inframerah. Daripada memanaskan udara di sekeliling wafer, kaedah ini menghantar tenaga secara langsung ke permukaan wafer tersebut. Tiada keperluan untuk menggunakan oven konvensional atau bahan kimia yang boleh menyebabkan kerosakan.

Lampu pengering wafer yang murah

Sat, 04 Jul 2026 12:09:02 +0800

Lampu Inframerah untuk Pengeringan Wafer: Prestasi Tinggi, Tanpa Harga Yang Mahal
Kami menciptakan lampu inframerah ini untuk menjadi pengganti yang sempurna bagi peralatan import yang mahal yang digunakan sekarang. Anda akan mendapatkan prestasi yang setara dengan peralatan berkualiti tinggi, tetapi tanpa harga yang mahal. Tujuannya adalah untuk membantu anda mengurangkan kos tanpa mengorbankan kualiti pengeluaran.

Kuasa dan Saiz yang Sesuai
Untuk mendapatkan suhu yang tepat bagi proses pengeringan yang tepat, perkara yang paling penting ialah kuasa dan voltan yang digunakan. Lampu ini beroperasi pada voltan 400V, dengan kuasa sebanyak 2500W, melalui tiub berdiameter 300mm. Ini bermakna terdapat banyak haba yang dihasilkan dalam ruang yang kecil, dan inilah yang diperlukan untuk membuang bahan pelarut dari wafer dengan cepat. Namun, output sebanyak 2500W bermakna sistem penyejukan mesin perlu mampu menangani beban tersebut. Ini bukanlah lampu yang boleh disambungkan begitu sahaja ke soket biasa; ia memerlukan litar voltan tinggi yang khusus.

Pemanas untuk mengeringkan wafer MEMS

Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800

Di permukaan lantai yang diperbuat daripada batu, wafer tersebut akan keluar dari proses pencucian dan memasuki tahap pengeringan. Jika terdapat titik panas atau perubahan suhu yang tidak dijangka, corak fotorezistan pada wafer boleh rosak. Kami telah mencipta pemanas khas untuk proses pengeringan wafer MEMS ini, agar perkara tersebut tidak berlaku. Dalam bidang ini, tiada ruang untuk membuat pengecualian.

Apa yang penting dalam reka bentuknya
Kami menggunakan pancaran inframerah gelombang pendek dengan penjana haba jenis kuarsa-halogen. Ini membolehkan penghasilan haba yang cepat dan terarah, dengan kelewatan haba yang minimum. Kestabilan suhu pada seluruh permukaan wafer dapat dikekalkan pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan tetapan suhu pula berada dalam lingkungan ±0.5°C. Dengan cara ini, setiap proses pengeringan dapat dilakukan dengan tepat mengikut spesifikasi yang ditetapkan. Reka bentuk alat ini juga memastikan kebersihan bilik, kerana bahan-bahan yang digunakan pada badan pemanas sudah diproses sedemikian rupa agar tidak menimbulkan zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer. Alat ini mampu mengekalkan suhu yang stabil sepanjang masa. Data yang diperoleh menunjukkan bahawa alat ini boleh beroperasi selama 5,000 jam tanpa memerlukan penyelenggaraan rutin, dan tiada masa henti yang tidak dijangka akibat masalah pada pemanas.

Elemen pemanas untuk proses oksidasi wafer

Tue, 23 Jun 2026 01:17:11 +0800

Dalam proses penghasilan cip, had suhu bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan batasan yang tidak boleh dilanggar. Perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses oksidasi, atau perbezaan suhu antara bahagian yang berbeza dalam ketuhar, akan menyebabkan masalah seperti penurunan ketebalan lapisan bahan, perubahan lebar garisan, dan penurunan kualiti produk. Anda akan menanggung kos tambahan dari segi masa operasi mesin dan bahan kimia yang digunakan. Apa yang diperlukan ialah elemen pemanas yang mampu mengekalkan suhu yang tetap, walaupun profil proses berubah dan tekanan di bilik bersih tetap tinggi.

Wafer yang kering dengan cepat selepas dicuci menggunakan lampu.

Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800

Di fasiliti pembuatan cip ini, anda tidak boleh membiarkan air tertinggal pada permukaan wafer setelah proses pencucian. Air yang tersisa akan menarik partikel-partikel tertentu, dan menyebabkan lapisan fotorezistan menjadi kurang efektif. Ini akan mengakibatkan penurunan kualiti wafer sebelum proses litografi pun bermula. Proses pengeringan menggunakan putaran memakan masa yang lama, sehingga mengurangkan kecepatan pengeluaran wafer. Kita telah mencipta lampu pengeringan yang cepat untuk mengurangkan masa yang diperlukan dan memastikan permukaan wafer tetap utuh.