<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pendek on The Infrared Heating Hub</title>
		<link>http://ir-heating-hub.com/ms/tags/pendek/</link>
		<description>Recent content in Pendek on The Infrared Heating Hub</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 05:26:48 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-hub.com/ms/tags/pendek/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu inframerah gelombang pendek untuk IC</title>
				<link>http://ir-heating-hub.com/ms/posts/short-wave-infrared-lamp-for-ic/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 05:26:48 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-hub.com/ms/posts/short-wave-infrared-lamp-for-ic/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Lampu inframerah gelombang pendek untuk IC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran, terdapat wafer sebesar 12 inci yang sedang menunggu proses pemanasan menggunakan bahan photoresist. Anda tahu betapa pentingnya perkara ini: perubahan suhu sebanyak 1°C sahaja pun boleh mengganggu kawalan ketebalan garisan pada permukaan wafer tersebut. Yang diperlukan ialah haba yang digunakan dengan cepat, agar haba tersebut dapat “menetap” di permukaan wafer tanpa menyebabkan sebarang gangguan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikal:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Lampu inframerah gelombang pendek (SWIR) yang digunakan akan &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;menghantar&lt;/a&gt; haba secara langsung ke bahan photoresist dan substrat—tanpa perlu menunggu proses &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;konveksi&lt;/a&gt; berlaku. Panjang gelombang cahaya yang dihasilkan oleh lampu SWIR direka untuk memastikan penyerapan haba yang efektif pada lapisan organik dan silikon. Dengan cara ini, suhu dapat dicapai dalam masa kurang dari 30 saat. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;kekal&lt;/a&gt; dalam lingkungan ±0.1°C, manakala ketepatan pengulangan proses pemanasan pula melebihi ±0.2°C.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
