http://ir-heating-hub.com/ms/tags/mems/ Recent content in MEMS on The Infrared Heating Hub Hugo ms Fri, 17 Jul 2026 08:07:41 +0800 http://ir-heating-hub.com/ms/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ Fri, 17 Jul 2026 08:07:41 +0800 http://ir-heating-hub.com/ms/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heating-hub.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS"></p> <p><strong>Mengapa kita menggunakan kaedah pengeringan inframerah untuk komponen tanpa plumbum</strong><br> Ketika mengeringkan wafer sensor MEMS, kita menghadapi masalah yang rumit. Kita perlu membuang setiap titik kelembapan dan pelarut yang ada, tetapi pada masa yang sama kita tidak boleh meninggalkan sebarang sisa bahan tersebut. Selain itu, kita juga tidak boleh menggunakan haba yang berlebihan, <a href="https://henruite.com">kerana</a> itu akan merosakkan wafer tersebut.</p> <p>Itulah sebabnya kita menggunakan kaedah pengeringan inframerah. Daripada memanaskan udara di sekeliling wafer, kaedah ini menghantar tenaga secara langsung ke permukaan wafer tersebut. Tiada keperluan untuk menggunakan oven konvensional atau bahan kimia yang boleh menyebabkan kerosakan.</p> http://ir-heating-hub.com/ms/posts/mems-wafer-drying-heater/ Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800 http://ir-heating-hub.com/ms/posts/mems-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heating-hub.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Pemanas untuk mengeringkan wafer MEMS"></p> <p>Di permukaan lantai yang diperbuat daripada batu, wafer tersebut akan keluar dari proses pencucian dan memasuki <a href="https://henruite.com">tahap</a> pengeringan. Jika terdapat titik panas atau perubahan suhu yang tidak dijangka, corak fotorezistan pada wafer boleh rosak. Kami telah mencipta pemanas khas untuk proses pengeringan wafer MEMS ini, agar perkara tersebut tidak berlaku. Dalam bidang ini, tiada ruang untuk membuat pengecualian.</p> <p><strong>Apa yang penting dalam reka bentuknya</strong><br> Kami menggunakan pancaran inframerah gelombang pendek dengan penjana haba jenis kuarsa-halogen. Ini membolehkan penghasilan haba yang cepat dan terarah, dengan kelewatan haba yang minimum. Kestabilan suhu pada seluruh permukaan wafer dapat dikekalkan pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan tetapan suhu pula berada dalam lingkungan ±0.5°C. Dengan cara ini, setiap proses pengeringan dapat dilakukan dengan tepat mengikut spesifikasi yang ditetapkan. Reka bentuk alat ini juga memastikan kebersihan bilik, kerana bahan-bahan yang digunakan pada <a href="https://o-yate.com">badan</a> pemanas sudah diproses sedemikian rupa agar tidak menimbulkan zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer. Alat ini mampu mengekalkan suhu yang stabil sepanjang masa. Data yang diperoleh menunjukkan <a href="https://goldisgood.com">bahawa</a> alat ini boleh beroperasi selama 5,000 jam tanpa memerlukan penyelenggaraan rutin, dan tiada masa henti yang tidak dijangka akibat masalah pada pemanas.</p>