Wafer yang kering dengan cepat selepas dicuci menggunakan lampu.

Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800

Di fasiliti pembuatan cip ini, anda tidak boleh membiarkan air tertinggal pada permukaan wafer setelah proses pencucian. Air yang tersisa akan menarik partikel-partikel tertentu, dan menyebabkan lapisan fotorezistan menjadi kurang efektif. Ini akan mengakibatkan penurunan kualiti wafer sebelum proses litografi pun bermula. Proses pengeringan menggunakan putaran memakan masa yang lama, sehingga mengurangkan kecepatan pengeluaran wafer. Kita telah mencipta lampu pengeringan yang cepat untuk mengurangkan masa yang diperlukan dan memastikan permukaan wafer tetap utuh.

Pemanas pemanasan pantas

Sun, 31 May 2026 05:09:51 +0800

Introduction

Bayangkan ini: anda tekan suis, dan bam—panas terus mengenai sasaran. Sekarang juga. Tiada masa menunggu untuk pemanasan secara perlahan. Itulah yang kami bina.
Kami bercakap tentang pemanas inframerah pemanasan pantas, direka untuk ruang industri di mana beberapa saat kelewatan boleh mengganggu keseluruhan rutin anda. Teknologi di sebalik kepantasan itu? Teknologi inframerah berasaskan halogen. Ia menghasilkan gelombang haba yang terasa hampir serta-merta.

What Makes It Tick

Ini perkara utama: kuasa mestilah sesuai dengan tugasan. Pemanas ini direka untuk 400V, yang memberikan kuasa yang tinggi dalam saiz yang padat.
Tiubnya panjangnya sekitar 300mm. Ini memastikan sumber haba berada tepat di tempat yang diperlukan—dekat dengan sasaran—tanpa mengambil ruang berlebihan. Fokus tenaga pada titik yang tepat inilah sebab permukaan memanas dengan cepat, dan output inframerah berlaku serta-merta.

Cepat on The Infrared Heating Hub

Wafer yang kering dengan cepat selepas dicuci menggunakan lampu.

Pemanas pemanasan pantas

Introduction

What Makes It Tick