<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bilas on The Infrared Heating Hub</title>
		<link>http://ir-heating-hub.com/ms/tags/bilas/</link>
		<description>Recent content in Bilas on The Infrared Heating Hub</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-hub.com/ms/tags/bilas/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Wafer yang kering dengan cepat selepas dicuci menggunakan lampu.</title>
				<link>http://ir-heating-hub.com/ms/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-hub.com/ms/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Wafer yang kering dengan cepat selepas dicuci menggunakan lampu.&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasiliti pembuatan cip ini, anda tidak boleh membiarkan air tertinggal pada permukaan wafer setelah proses pencucian. Air yang tersisa akan menarik partikel-partikel tertentu, dan menyebabkan lapisan fotorezistan menjadi kurang efektif. Ini akan mengakibatkan penurunan &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;kualiti&lt;/a&gt; wafer sebelum proses litografi pun bermula. Proses pengeringan menggunakan putaran memakan masa yang lama, sehingga mengurangkan kecepatan pengeluaran wafer. Kita telah mencipta lampu pengeringan yang cepat untuk mengurangkan masa yang diperlukan dan memastikan permukaan wafer tetap utuh.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
