Hentikan proses pemanasan mesin tersebut, dan mulailah memanaskan substratnya sahaja.
Jika anda pernah bekerja dengan karbon nanotube (CNT), anda pasti tahu betapa sukar untuk mengawal suhu semasa proses pemprosesan. Kebanyakan orang menggunakan oven biasa untuk memanaskan bahan-bahan tersebut, tetapi cara ini sebenarnya sama saja seperti cuba memanaskan sekeping pizza dengan memanaskan seluruh dapur. Ini merupakan pembaziran tenaga. Lebih teruk lagi, ia akan menyebabkan bahagian dalam alat semikonduktor menjadi sangat panas. Tiada siapa yang ingin bekerja di persekitaran yang begitu panas, hanya kerana substrat perlu mencapai suhu tertentu.
Itulah sebabnya kami beralih kepada kaedah pemanasan menggunakan sinar inframerah yang disasarkan secara tepat.
Bagaimana ia berfungsi?
Bayangkanlah ia seperti lampu suluh, bukannya pemanas ruangan. Sementara kaedah konveksi hanya menghantar udara panas ke semua arah, lampu inframerah pula menghantar radiasi elektromagnetik secara langsung ke kawasan yang dituju. Panas tersebut akan kekal di sana. Oleh kerana dinding peralatan tidak berada dalam “garis pandangan” lampu tersebut, dinding tersebut tetap sejuk. Dengan cara ini, anda dapat mendapatkan suhu yang diperlukan untuk proses CVD, tanpa perlu memanaskan seluruh makmal.
Cabaran utama: Mengimbangi kuasa pemanasan
Apabila menggunakan pemanasan inframerah yang berkuasa tinggi, keadaan akan menjadi sangat panas. Anda perlu memastikan bahawa tenaga yang digunakan tidak terlalu banyak, agar substrat tidak rosak atau lampu tidak terbakar. Anda juga perlu memastikan sistem penyejukan mampu menangani beban haba tersebut. Jika tidak, haba akan merebak ke tempat-tempat yang sepatutnya tidak panas.
Mengapa ini memudahkan kerja anda?
Yang terbaik ialah kawasan kerja anda tidak lagi berbahaya. Apabila dinding tidak memancarkan haba, para pekerja boleh masuk ke dalamnya untuk melakukan penyelenggaraan atau memasukkan wafer tanpa perlu risau tentang suhu sekeliling. Ini memudahkan kerja anda. Selain itu, kaedah ini memberikan kawalan yang lebih baik berbanding penggunaan oven biasa. Anda boleh menyesuaikan suhu substrat tanpa perlu risau tentang apa yang berlaku pada dinding bilik tersebut. Itulah rahsia untuk mendapatkan hasil penghasilan CNT yang konsisten pada keseluruhan wafer.