Di bangunan pengeluaran, kecacatan yang berlaku semasa proses pemotongan menggunakan laser jarang berlaku. Kecacatan tersebut sebenarnya bermula lebih awal, iaitu apabila permukaan wafer terlalu sejuk, tidak rata, atau berada di luar julat suhu yang ditetapkan oleh bahan fotorezist. Keadaan ini akan menyebabkan berlakunya mikro-retakan pada permukaan wafer, serta perubahan pada bentuk celah yang terbentuk semasa proses pemotongan. Kami telah mencipta pemanas khas untuk mengekalkan suhu wafer pada tahap yang sesuai, agar hasil pemotongan sentiasa memenuhi spesifikasi yang ditetapkan.
Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kita perlu memastikan suhu wafer kekal stabil dalam lingkungan ±0.1°C di kawasan yang dipanaskan. Selain itu, nilai suhu yang ditetapkan perlu stabil dari satu proses pemotongan ke proses pemotongan yang lain. Badan pemanas ini direka untuk digunakan dalam persekitaran bersih bertaraf Class 1–100, dan ia juga direka untuk mengelakkan penghasilan zarah-zarah halus, supaya tidak berlaku pencemaran antara satu proses pemotongan dengan yang lain. Pemanas ini boleh disambungkan dengan platform pemotongan laser dengan cara yang efektif, dan ia berfungsi 24/7 dengan kebolehpercayaan yang tinggi.
Mengapa ini penting:
Proses pemotongan menggunakan laser sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Jika wafer terlalu sejuk, tenaga laser yang diserap akan menyebabkan tekanan termal pada lapisan-lapisan bahan wafer, sehingga menyebabkan retakan. Sebaliknya, jika wafer terlalu panas, bahan fotorezist akan menjadi lembut dan bentuk celah yang terbentuk akan berubah. Pemanas ini membantu menstabilkan suhu wafer di titik pemotongan, sekali gus melindungi integriti bahan fotorezist dan memastikan konsistensi bentuk celah yang terbentuk. Hasilnya, jumlah wafer yang gagal akan berkurangan, kerja-kerja pembaikan akan berkurangan, dan kadar pengeluaran akan meningkat.
Beberapa perkara praktikal:
Pemasangan pemanas ini bergantung pada arah aliran gas dan saluran pengaliran udara. Jika ia tidak dilakukan dengan betul, akan timbul perbezaan suhu di sepanjang tepi wafer. Pemanas ini dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, tetapi penstabilan suhu bergantung pada reka bentuk komponen pemanas dan jisim haba di dalam bilik pengeluaran. Oleh itu, perlu ada pengesahan keseluruhan sistem, bukan hanya pemanas sahaja. Bahan-bahan yang digunakan juga dipilih khusus untuk digunakan dalam persekitaran bersih, namun semasa proses pemprosesan menggunakan cecair, masih perlu ada prosedur operasi standard yang ketat.