
Pada lantai pengeluaran wafer, proses pembuatan biosensor sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Proses pemanasan fotoresist memerlukan pengawalan suhu yang tepat; sekiranya suhu tidak dikawal dengan baik, walaupun hanya beberapa darjah sahaja, saluran mikrofluidik dan lapisan sensor akan kehilangan kawalan dimensi mereka dengan cepat. Penggunaan haba inframerah memang efektif, tetapi hanya jika lampu tersebut mampu menghasilkan tenaga yang konsisten dan stabil.
Apa yang penting ialah sistem pemanasan yang digunakan. Kami menggunakan pemancar cahaya berfrekuensi rendah jenis NIR, yang direka untuk memberikan respons termal yang cepat serta suhu yang stabil. Sistem ini dapat mengekalkan keseragaman suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C di seluruh kawasan pemanasan, supaya setiap proses pemanasan berjalan mengikut spesifikasi yang ditetapkan.
Sistem ini juga sesuai untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100. Struktur lampu yang tertutup, bahan-bahan yang kurang mengeluarkan gas, serta sistem aliran udara yang dikawal dengan baik dapat memastikan jumlah zarah tidak meningkat semasa proses pemanasan yang panjang. Hasilnya, prestasi lampu tetap konsisten walaupun digunakan selama lebih dari 5,000 jam, dengan penyimpangan suhu yang kurang dari 5%.
Mengapa ini penting untuk biosensor? Ini kerana lapisan film tipis dan lapisan fotoresist perlu disimpan dalam keadaan suhu yang stabil. Dengan lampu ini, suhu yang diinginkan dapat dicapai dengan lebih cepat, dan ia juga membantu mengurangkan masalah yang timbul akibat pemanasan yang tidak sempurna. Hasilnya, ketepatan pelapisan menjadi lebih baik, kecacatan berkurangan, dan dimensi kritikal produk menjadi lebih konsisten.
Selain itu, penggunaan lampu ini juga membantu menjimatkan tenaga, kerana lampu akan memanaskan diri mengikut keperluan, dan sekaligus mengurangkan masa pendinginan yang tidak diperlukan, sehingga meningkatkan kelajuan pengeluaran.
Secara praktikalnya, lampu ini boleh digabungkan dengan modul pemanasan semikonduktor biasa. Namun, antaramuka pemasangan dan massa haba dalam ruang pemanasan perlu diselaraskan dengan konfigurasi pengeluaran anda. Ada waktu pemanasan singkat sebelum suhu mencapai nilai yang diinginkan. Anda juga perlu merancang masa untuk kalibrasi agar dapat memastikan nilai emisi dan penyesuaian suhu yang sesuai untuk setiap jenis wafer yang digunakan.
Jika operasi dilakukan dalam keadaan kelembapan yang tinggi, perlu ada langkah-langkah tambahan untuk mengawal keadaan embun di sekitar lampu. Jika tidak, akan berlaku penyimpangan suhu.