http://ir-heating-hub.com/ko/tags/%EC%99%80%EC%9D%B4%ED%8D%BC/ Recent content in 와이퍼 on The Infrared Heating Hub Hugo ko Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800 http://ir-heating-hub.com/ko/posts/mems-wafer-drying-heater/ Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800 http://ir-heating-hub.com/ko/posts/mems-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heating-hub.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="MEMS 웨이퍼 건조 히터"></p> <p>석판 위에서 웨이퍼는 세척 공정을 거친 뒤 건조 공정으로 넘어갑니다. 만약 특정 부분의 온도가 너무 높아지거나 낮아지면, 포토레지스트 패턴이 손상될 수 있습니다. 이를 방지하기 위해 우리는 MEMS 웨이퍼용 건조 히터를 개발했습니다. 이 업계에서는 예외를 둘 수 없기 때문입니다.</p> http://ir-heating-hub.com/ko/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Tue, 23 Jun 2026 01:17:10 +0800 http://ir-heating-hub.com/ko/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heating-hub.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="와이퍼 산화 가열 소자"></p> <p>열적 제한은 단순한 권고사항이 아니라, 반드시 준수해야 할 한계입니다. 산화 과정에서 온도가 0.5도만 벗어나거나, 오븐의 특정 부분이 너무 뜨겁고 다른 부분은 너무 차가운 경우, 이는 웨이퍼의 두께 변화나 선의 폭 변동, 그리고 생산율 저하로 금방 나타납니다. 이러한 문제로 인해 리소그래피 장비의 가동 시간과 포토레지스트 소모량이 증가합니다. 따라서 배치 프로파일이 변하거나 클린룸 내 압력이 변동해도 일정한 온도를 유지할 수 있는 가열 요소가 필요합니다.</p> http://ir-heating-hub.com/ko/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/ Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800 http://ir-heating-hub.com/ko/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/ <p><img src="http://ir-heating-hub.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="리필 램프를 사용한 빠른 건조 웨이퍼"></p> <p>생산 라인에서는 세척 후에 시간을 낭비할 여유가 없습니다. 남아 있는 물은 불순물을 유발하고, 포토레지스트의 건조를 방해하여, 리소그래피 공정이 시작되기 전부터 수율 저하를 초래합니다. 회전식 건조 과정은 처리 속도를 늦추고, 불필요한 변동성을 야기합니다. 우리는 이러한 문제를 해결하기 위해 빠르게 건조되는 웨이퍼용 램프를 개발했습니다.</p>