http://ir-heating-hub.com/ko/tags/%EC%82%B0%ED%99%94/ Recent content in 산화 on The Infrared Heating Hub Hugo ko Tue, 23 Jun 2026 01:17:10 +0800 http://ir-heating-hub.com/ko/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Tue, 23 Jun 2026 01:17:10 +0800 http://ir-heating-hub.com/ko/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heating-hub.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="와이퍼 산화 가열 소자"></p> <p>열적 제한은 단순한 권고사항이 아니라, 반드시 준수해야 할 한계입니다. 산화 과정에서 온도가 0.5도만 벗어나거나, 오븐의 특정 부분이 너무 뜨겁고 다른 부분은 너무 차가운 경우, 이는 웨이퍼의 두께 변화나 선의 폭 변동, 그리고 생산율 저하로 금방 나타납니다. 이러한 문제로 인해 리소그래피 장비의 가동 시간과 포토레지스트 소모량이 증가합니다. 따라서 배치 프로파일이 변하거나 클린룸 내 압력이 변동해도 일정한 온도를 유지할 수 있는 가열 요소가 필요합니다.</p>