http://ir-heating-hub.com/ja/tags/%E3%83%AA%E3%82%BD%E3%82%B0%E3%83%A9%E3%83%95%E3%82%A3%E3%83%BC/ Recent content in リソグラフィー on The Infrared Heating Hub Hugo ja Fri, 03 Jul 2026 15:31:08 +0800 http://ir-heating-hub.com/ja/posts/semiconductor-lithography-oven-lamp/ Fri, 03 Jul 2026 15:31:08 +0800 http://ir-heating-hub.com/ja/posts/semiconductor-lithography-oven-lamp/ <p><img src="http://ir-heating-hub.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="半導体リソグラフィー用オーブンランプ"></p> <p>リソグラフィー<a href="https://o-yate.net">工程</a>において、フォトレジストのベイク<a href="https://o-yate.com">処理</a>は単なるオプションではなく、製品の品質を左右する重要な要素です。もしベイク時の温度が安定しなかったり、均一に加熱されなかったりすると、寸法の誤差や汚れが発生し、最終的には廃棄されるワーフが増えてしまいます。オーブン内のランプがバッチ全体で均一な温度を保てない場合、工程の精度が低下してしまいます。</p> <p><strong>重要なポイント</strong> 私たちが選定するリソグラフィーオーブン用ランプは、短波長のハロゲン光源やNIR対応の石英素子を使用しています。これにより、迅速な温度応答と安定した放射出力が得られます。このシステムは、ベイクエリア内で±0.1℃の温度均一性を実現し、繰り返し運転時でも重要な寸法が一定に保たれるように調整されています。</p>