ウェーハ on The Infrared Heating Hub

ウェーハ加熱時の安全距離

Sat, 25 Jul 2026 05:08:19 +0800

高温環境下でウェーハを清潔に保つ方法
大量生産の状況では、たった一つの故障が一日の仕事を台無しにしてしまうこともあります。赤外線ランプが壊れると、加熱が停止するだけでなく、石英の破片やハロゲンガスがウェーハに飛び散ります。これは、数秒間で一括の製品が廃棄されてしまう悲惨な状況です。

私たちは、そのような問題が製品に及ばないように、特別に設計されたIR加熱システムを使用しています。

適切な距離の調整
加熱効率を高めるために、ランプを基板上にできるだけ近くに設置したくなります。しかし、そうすると故障時に破片が直接ウェーハに当たるリスクが高まります。

ウェーハ硬化ランプ用反射板

Thu, 23 Jul 2026 12:26:47 +0800

ウェーハの硬化処理を正しく行うためには、反射器が鍵となります。
ウェーハの硬化処理を行っている人なら、その苦労はよくわかるでしょう。適切な温度勾配を実現するためには、短波長の赤外線ランプと、非常に特殊な反射器を組み合わせる必要があります。
実際、現代のファブでは、データ駆動型の加熱方式が重視されています。しかし、もしエネルギーがあちこちに散乱してしまうようであれば、それは意味のないことです。

ウェーハツール用温度センサー

Wed, 22 Jul 2026 05:09:05 +0800

ウェーハの温度を推測するのはやめましょう。
スマートなファブを構築するなら、古い接触型の熱電対は使わない方が良いです。もはやそれでは不十分です。ウェーハの温度を測定するには、高速な赤外線センサーを使用します。これにより、基板に触れることなく、リアルタイムで温度情報を取得できます。

省エネ型ウェーハヒーター

Mon, 20 Jul 2026 12:05:48 +0800

なぜ、無鉛チップの製造に赤外線硬化技術を採用するのか
半導体の製造方法が変わりつつあります。私たちは、従来の溶剤を使った乾燥方法や鉛を含む材料から離れていきています。つまり、赤外線硬化技術を積極的に活用することになります。

ウェーハ用高精度IRセンサー

Sun, 19 Jul 2026 17:03:22 +0800

IRランプが壊れると、全てが台無しになってしまいます。半導体製造の現場では、IRランプの故障は単なる「技術的な不具合」や一時的な停止に過ぎません。それはまさに悪夢です。高負荷の状態で石英製のケースが壊れてしまうと、ガラスの破片やハロゲンガスがウェーハに直接降り注ぎます。そうなると、そのロット全体が廃棄処分になってしまいます。大変な混乱が生じ、費用も莫大にかかります。

MEMSセンサーワイヤー用乾燥ヒーター

Fri, 17 Jul 2026 08:07:34 +0800

なぜ無鉛セミスタンダード製品には赤外線硬化法が使われるのか
MEMSセンサーワイヤーを乾燥させる際、厄介な問題があります。水分や溶剤の一滴も残してはいけないのですが、同時に、わずかな残留物も許されません。また、ワイヤーに過度な熱を加えてはいけません。そうすると、全体が破壊されてしまいます。

安価なウェーハ乾燥用ランプの電球

Sat, 04 Jul 2026 12:09:01 +0800

ウェーハ乾燥用の赤外線ランプ：高性能でありながら、高価ではない
私たちが開発したこのウェーハ乾燥用赤外線ランプは、これまで使用してきた高価な輸入品のシンプルな代替品です。有名ブランド製品に匹敵する性能を持ちながら、高額な価格はかかりません。つまり、生産ラインでのコストを削減しつつも、品質を維持できるのです。

レーザーワッフерダイシングサポートヒーター

Wed, 01 Jul 2026 13:37:41 +0800

ファブ内では、レーザーが照射される際にダイ싱不良が発生することはほとんどありません。不良は、基板の温度が低すぎたり、平坦でなかったり、フォトレジストの耐熱範囲を超えたりした時点で発生します。このような状況は、微小なチッピングやエッジの割れ、または各加工箇所での切断幅のばらつきとして現れます。私たちは、ファブレベルの厳格な管理によって温度をコントロールし、毎回一定の品質の切断が行えるように、レーザーワイヤーダイ싱用のヒーターを開発しました。

MEMSウェーハ乾燥ヒーター

Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800

リソグラフィーの工程で、ウェーハは洗浄工程を経て乾燥工程に移ります。もし、どこか一か所でも温度が不安定になると、フォトレジストのパターンが変形してしまいます。そうした事態を防ぐために、私たちはMEMSウェーハ用の乾燥ヒーターを開発しました。この業界では、例外を許されないからです。

ウェーハ酸化用加熱素子

Tue, 23 Jun 2026 01:17:10 +0800

実際には、熱的な制約というのは単なる提案ではなく、絶対に超えてはならない境界線です。酸化処理中に半度でも温度が変動したり、ある場所だけが過度に高温になったりすると、ウェーハの厚みの減少やライン幅のばらつき、歩留まりの低下といった問題がすぐに現れます。その結果、リソグラフィーの稼働時間やフォトレジストの消耗量が増加します。必要なのは、バッチごとの条件が変わったり、クリーンルーム内の圧力が変動しても、設定された温度をしっかり維持できる加熱要素です。

洗浄ランプ後の速乾ウェーハ

Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800

ファブ内では、洗浄後に時間を無駄にする余裕はありません。残留した水分は不純物の原因となり、フォトレジストの乾燥を妨げます。つまり、露光処理が始まる前からすでに歩留まりの低下が起こってしまいます。スピンドライの工程によって時間がかかり、生産効率が低下し、不要なばらつきも生じます。そこで、私たちはこの時間を短縮し、ウェハの表面を保護するための高速乾燥用ランプを開発しました。