Wafer a seccaggio rapido dopo la lampada di sciacquo

Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800

Nelle linee di produzione, non si può permettere di aspettare dopo il passaggio di lavaggio. L’acqua rimasta sulla superficie favorisce l’accumulo di particelle e compromette la qualità del fotoresist; in questo modo si rischia già una perdita di produttività, ancora prima che inizi la litografia stessa. I cicli di essiccazione prolungati riducono l’efficienza della linea di produzione e introducono variabilità che non sono affatto necessarie. Abbiamo creato una lampada per l’essiccazione rapida dei wafer, al fine di ridurre i tempi di essiccazione e mantenere intatta la superficie dei wafer.

Sciacqua on The Infrared Heating Hub

Wafer a seccaggio rapido dopo la lampada di sciacquo