Lampada a infrarossi a onde corte per IC

Sat, 27 Jun 2026 05:26:48 +0800

Nella sala di produzione, c’è un wafer di 12 pollici che attende di essere sottoposto al trattamento termico necessario per la stampa fotolitografica. Bisogna tenere sotto controllo eventuali variazioni di temperatura: anche un cambiamento di 1°C sulla superficie del wafer può influire negativamente sulla precisione dei risultati ottenuti. Quello che serve è un riscaldamento rapido e preciso, senza che vengano create particelle indesiderate.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Le lampade a infrarossi a onde corte (SWIR) trasmettono il calore direttamente nel fotoresista e sul substrato, evitando così tempi di attesa legati alla convezione termica. La emissione massima nelle bande SWIR permette una forte assorbimento del calore nei film organici e nel silicio; quindi è possibile raggiungere il livello di temperatura desiderato in meno di 30 secondi. L’uniformità della temperatura su tutto il wafer rimane entro valori compresi tra ±0,1°C, mentre la ripetibilità è superiore a ±0,2°C da un ciclo all’altro.

Onda on The Infrared Heating Hub

Lampada a infrarossi a onde corte per IC