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		<title>MEMS on The Infrared Heating Hub</title>
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		<description>Recent content in MEMS on The Infrared Heating Hub</description>
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			<lastBuildDate>Fri, 17 Jul 2026 08:07:37 +0800</lastBuildDate>
		
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				<title>Riscaldatore per essiccazione dei wafer dei sensori MEMS</title>
				<link>http://ir-heating-hub.com/it/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Fri, 17 Jul 2026 08:07:37 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore per essiccazione dei wafer dei sensori MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Perché utilizziamo la tecnologia di cura a infrarossi per i &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;semistandard&lt;/a&gt; senza piombo&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Quando si asciugano le lastre dei sensori MEMS, sorge un problema complicato: bisogna eliminare ogni singola goccia di umidità e solvente, ma allo stesso tempo non si può lasciare alcun residuo. Inoltre, non si può assolutamente esporre le lastre a temperature troppo elevate, altrimenti tutto andrà distrutto.&lt;br&gt;&#xA;Ecco perché preferiamo utilizzare la tecnologia di cura a infrarossi. Invece di riscaldare l’aria circostante, questa tecnologia invia energia direttamente nel substrato. Niente forni a convezione, niente aria calda, e niente catalizzatori chimici.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Riscaldatore per essiccazione di wafer MEMS</title>
				<link>http://ir-heating-hub.com/it/posts/mems-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore per essiccazione di wafer MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sul piano di lavoro in pietra, il wafer esce dalla fase di risciacquo e passa alla fase di essiccazione. Anche un picco di temperatura o un piccolo difetto nella regolazione della temperatura possono causare problemi: il disegno del fotoresist potrebbe risultare alterato. Abbiamo progettato un riscaldatore specifico per l’essiccazione dei wafer MEMS, proprio per evitare che ciò accada… perché in questo settore non si possono fare eccezioni.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Cosa è importante nel funzionamento del dispositivo&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Utilizziamo emissori a infrarossi a lunghezza d’onda corta, dotati di elementi a quarzo-ioduro. Questo permette di ottenere un riscaldamento rapido e mirato, con un ritardo termico minimo. L’uniformità della temperatura su tutto il wafer viene mantenuta entro ±0,1°C, mentre la precisione della regolazione della temperatura rimane entro ±0,5°C. In questo modo, ogni processo di essiccazione avviene secondo le specifiche previste. Il design del dispositivo prevede l’uso di materiali passivanti sull’elemento riscaldante, nonché un sistema di flusso d’aria progettato per ridurre al minimo la produzione di particelle, garantendo così il funzionamento corretto anche in ambienti di classe 1–100. Il dispositivo mantiene una temperatura stabile 24 ore su 24; i dati raccolti indicano che è possibile utilizzarlo per oltre 5.000 ore senza interruzioni dovute a problemi legati al riscaldatore.&lt;/p&gt;</description>
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