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		<title>Litografia on The Infrared Heating Hub</title>
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				<title>Lampada per forno di litografia a semiconduttori</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lampada per forno di litografia a semiconduttori&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;Nella&lt;/a&gt; fase di litografia, la cottura del fotorest non è soltanto un passaggio ausiliario: rappresenta infatti un fattore cruciale per ottenere risultati di qualità. Se la temperatura di cottura non rimane costante, oppure se il processo di cottura non avviene in modo uniforme, si verificano errori dimensionali e problemi legati alla qualità dei wafer, che finiscono inevitabilmente nel bidone dei rifiuti. Quando la lampada dell’essiccatore non riesce a mantenere un’omogeneità termica nell’intero lotto, il processo diventa inefficace.&lt;/p&gt;</description>
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