Mengeringkan semikonduktor sebelum proses pengemasan di pabrik

Wed, 17 Jun 2026 16:30:06 +0800

Di jalur pengemasan, sedikit saja kelembapan yang tersisa setelah proses pembersihan sudah cukup untuk menyebabkan masalah seperti terlepasnya lapisan-lapisan material, kerusakan pada kabel penghubung, dan penurunan kualitas produk. Di pabrik yang beroperasi 24/7, fluktuasi suhu dan partikel-partikel kecil bukanlah sekadar “risiko”, melainkan hal yang bisa menghentikan proses produksi. Proses pengeringan harus dilakukan secara konsisten, bersih, dan cepat. Setiap kali shift berubah, setiap batch produk diproses.

Yang penting dalam proses pengeringan
Kami merancang sistem pengeringan berdasarkan dua faktor utama: keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer dan standar kebersihan di ruang kerja. Sistem ini mampu mempertahankan suhu tetap dalam rentang ±0,1°C di seluruh permukaan substrat, sehingga kualitas fotoresist tidak terganggu, baik selama proses pemanasan ringan maupun intensif. Sistem ini beroperasi dalam lingkungan kelas 1–100, tanpa adanya partikel-partikel kecil, sebagaimana yang diverifikasi melalui pemantauan yang dilakukan secara terus-menerus. Umur komponen melebihi 10.000 jam, dan kualitas output tetap stabil meski melalui ribuan siklus termal. Rekabetivitas sistem ini berasal dari kontrol loop tertutup, resep yang dapat diandalkan, serta pemetaan medan termal yang efektif, sehingga perbedaan suhu antara bagian tepi dan tengah wafer dapat diminimalkan.

Pembuangan Kelembapan on The Infrared Heating Hub

Mengeringkan semikonduktor sebelum proses pengemasan di pabrik