Mengeringkan on The Infrared Heating Hub

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Fri, 17 Jul 2026 08:07:38 +0800

Mengapa kita menggunakan metode pengeringan inframerah untuk proses pengolahan semikonduktor tanpa timbal
Saat mengeringkan wafer sensor MEMS, kita menghadapi masalah yang rumit. Kita perlu menghilangkan setiap tetesan kelembapan dan pelarut yang ada, tetapi kita juga tidak boleh meninggalkan sisa zat kimia apa pun di wafer tersebut. Selain itu, kita juga tidak boleh memberikan panas yang berlebihan pada wafer tersebut, karena hal itu akan merusaknya.

Itulah sebabnya kita menggunakan metode pengeringan inframerah. Alih-alih memanaskan udara di dalam ruangan, metode ini mengirimkan energi secara langsung ke permukaan substrat. Tidak ada kebutuhan untuk menggunakan oven konvensional atau bahan kimia yang berbahaya.

Lampu pengering wafer yang murah

Sat, 04 Jul 2026 12:09:02 +0800

Lampu Infra Merah untuk Mengeringkan Wafer: Kinerja Tinggi, Tanpa Harga yang Mahal
Kami merancang lampu infra merah ini agar dapat digunakan sebagai pengganti lampu impor yang harganya sangat mahal. Anda akan mendapatkan kinerja yang setara dengan lampu-lampu berkualitas tinggi tersebut, tetapi tanpa harus membayar harga yang mahal. Tujuannya adalah untuk membantu Anda mengurangi biaya produksi, tanpa harus mengorbankan kualitas produksi.

Daya dan Ukuran yang Tepat
Untuk mendapatkan suhu yang tepat guna proses pengeringan yang akurat, yang penting adalah daya dan tegangan yang digunakan. Lampu ini beroperasi pada tegangan 400V, dengan daya sebesar 2500W, melalui tabung berdiameter 300mm. Itu berarti ada banyak sekali panas yang dihasilkan dalam ruang kecil, dan itulah yang dibutuhkan untuk membuang solvent dari permukaan wafer secara cepat. Namun, penting untuk diketahui bahwa output 2500W tersebut berarti sistem pendingin mesin harus mampu mengatasinya. Ini bukanlah lampu biasa yang bisa dipasang di soket apa saja; lampu ini membutuhkan sirkuit khusus yang mampu menangani tegangan tinggi.

Pemanas untuk mengeringkan wafer MEMS

Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800

Di permukaan lantai yang berbahan batu tersebut, wafer akan keluar dari proses pembersihan dan memasuki tahap pengeringan. Jika ada titik panas atau perubahan suhu yang tidak diinginkan, pola fotoresist dapat rusak. Kami merancang pemanas khusus untuk menghindari hal ini—karena dalam bisnis ini, tidak boleh ada pengecualian.

Yang penting dalam desainnya
Kami menggunakan sinar inframerah berfrekuensi rendah dengan emitor jenis kuarsa-halogen. Hal ini memungkinkan pemanasan yang cepat dan terarah, dengan penundaan termal yang minimal. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer dipertahankan pada kisaran ±0,1°C, sedangkan ketepatan pengaturan suhu tetap berada dalam kisaran ±0,5°C. Dengan demikian, setiap proses pengeringan berjalan sesuai prosedur yang ditetapkan. Desain alat ini juga dirancang agar cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100: bahan pasif digunakan pada bagian pemanas, dan jalur aliran udara dirancang sedemikian rupa sehingga partikel-partikel kecil tidak terlepas. Alat ini mampu menjaga stabilitas suhu secara konstan sepanjang waktu. Data lapangan menunjukkan bahwa alat ini dapat beroperasi hingga 5.000 jam tanpa perlu perawatan rutin, dan tidak ada masa diam yang tidak terduga akibat masalah pemanas.

Wafer yang kering dengan cepat setelah dicuci menggunakan lampu.

Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800

Di fasilitas produksi, Anda tidak boleh membuang waktu setelah proses pencucian selesai. Air yang tersisa akan menarik partikel-partikel ke permukaan wafer, sehingga mengakibatkan penurunan kualitas lapisan fotoresist. Hal ini tentu saja akan berdampak negatif pada hasil produksi, bahkan sebelum proses litografi dimulai. Proses pengeringan menggunakan alat khusus membutuhkan waktu yang lama, sehingga mengurangi efisiensi produksi dan menambah variabilitas yang tidak diinginkan. Kami telah menciptakan lampu pengering yang cepat agar waktu pengeringan bisa dikurangi, sehingga permukaan wafer tetap utuh.