http://ir-heating-hub.com/id/tags/mems/ Recent content in MEMS on The Infrared Heating Hub Hugo id Fri, 17 Jul 2026 08:07:38 +0800 http://ir-heating-hub.com/id/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ Fri, 17 Jul 2026 08:07:38 +0800 http://ir-heating-hub.com/id/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heating-hub.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS"></p> <p><strong>Mengapa kita menggunakan metode pengeringan inframerah untuk proses pengolahan semikonduktor tanpa timbal</strong><br> Saat mengeringkan wafer sensor MEMS, kita menghadapi masalah yang rumit. Kita perlu menghilangkan setiap tetesan kelembapan dan pelarut yang ada, <a href="https://goldisgood.com">tetapi</a> kita juga tidak boleh meninggalkan sisa zat kimia apa pun di wafer tersebut. Selain itu, kita juga tidak boleh memberikan panas yang berlebihan pada wafer tersebut, karena hal itu akan merusaknya.</p> <p>Itulah sebabnya kita menggunakan metode pengeringan inframerah. Alih-alih memanaskan udara di dalam ruangan, metode ini mengirimkan energi secara langsung ke <a href="https://henruite.com">permukaan</a> substrat. Tidak ada kebutuhan untuk menggunakan oven konvensional atau bahan kimia yang berbahaya.</p> http://ir-heating-hub.com/id/posts/mems-wafer-drying-heater/ Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800 http://ir-heating-hub.com/id/posts/mems-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heating-hub.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Pemanas untuk mengeringkan wafer MEMS"></p> <p>Di permukaan lantai yang <a href="https://henruite.com">berbahan</a> batu tersebut, wafer akan keluar dari proses pembersihan dan memasuki tahap pengeringan. Jika ada titik panas atau perubahan suhu yang tidak diinginkan, pola fotoresist dapat rusak. Kami merancang pemanas khusus untuk menghindari hal ini—karena dalam bisnis ini, tidak boleh ada pengecualian.</p> <p><strong>Yang penting dalam desainnya</strong><br> Kami menggunakan sinar inframerah berfrekuensi rendah dengan emitor jenis kuarsa-halogen. Hal ini memungkinkan pemanasan yang cepat dan terarah, dengan penundaan termal yang minimal. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer dipertahankan pada kisaran ±0,1°C, sedangkan ketepatan pengaturan suhu tetap berada dalam kisaran ±0,5°C. Dengan demikian, setiap proses pengeringan berjalan sesuai prosedur yang ditetapkan. Desain alat ini juga dirancang agar cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100: bahan pasif digunakan pada bagian pemanas, dan <a href="https://goldisgood.com">jalur</a> aliran udara dirancang sedemikian rupa sehingga partikel-partikel kecil tidak terlepas. Alat ini mampu menjaga stabilitas suhu secara konstan sepanjang waktu. Data lapangan menunjukkan bahwa alat ini dapat beroperasi hingga 5.000 jam tanpa perlu perawatan rutin, dan tidak ada masa diam yang tidak terduga akibat masalah pemanas.</p>