<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Gelombang on The Infrared Heating Hub</title>
		<link>http://ir-heating-hub.com/id/tags/gelombang/</link>
		<description>Recent content in Gelombang on The Infrared Heating Hub</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 05:26:48 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-hub.com/id/tags/gelombang/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu inframerah gelombang pendek untuk IC</title>
				<link>http://ir-heating-hub.com/id/posts/short-wave-infrared-lamp-for-ic/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 05:26:48 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-hub.com/id/posts/short-wave-infrared-lamp-for-ic/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Lampu inframerah gelombang pendek untuk IC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lantai produksi, ada wafer berdiameter 12 inci yang sedang menunggu proses pemanasan menggunakan bahan fotoresist. Anda tentu tahu betapa &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;pentingnya&lt;/a&gt; hal ini: perubahan suhu sebesar 1°C saja sudah bisa mempengaruhi kualitas hasil produksi. Yang dibutuhkan adalah panas yang masuk ke permukaan wafer dengan cepat, sehingga tidak menyebabkan gangguan pada struktur wafer tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting secara teknis?&lt;/strong&gt;&#xA;Lampu inframerah gelombang pendek (SWIR) kita mampu menghasilkan panas langsung ke permukaan fotoresist dan substrat, tanpa perlu menunggu proses konveksi. Emisi cahaya pada rentang SWIR dirancang agar dapat diserap dengan baik oleh lapisan organik dan silikon. Dengan demikian, suhu dapat dicapai dalam waktu kurang dari 30 detik. Konsistensi suhu di seluruh permukaan wafer tetap berada dalam kisaran ±0,1°C, dan tingkat repetibilitasnya lebih baik, yaitu ±0,2°C antar batch produksi.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
