सूखाना on The Infrared Heating Hub

एमईएमएस सेंसर वेफरों को सूखाने हेतु हीटर

Fri, 17 Jul 2026 08:07:30 +0800

हम लीड-फ्री सेमी-स्टैंडर्डों के निर्माण हेतु इन्फ्रारेड क्यों उपयोग में लाते हैं?

जब MEMS सेंसर वेफरों को सुखाया जाता है, तो एक कठिन समस्या आती है – वहाँ मौजूद प्रत्येक बूँद पानी एवं विलायक को हटाना आवश्यक है; लेकिन वहाँ कोई भी अवशेष नहीं रहना चाहिए। साथ ही, वेफर पर अत्यधिक ऊष्मा लगाने से वह नष्ट हो सकता है।
इसीलिए हम इन्फ्रारेड विधि का उपयोग करते हैं। इस विधि में हवा को गर्म करने की आवश्यकता नहीं है; बल्कि ऊर्जा सीधे सब्सट्रेट तक पहुँचती है। इसमें कोई कन्वेक्शन ओवन नहीं होता, न ही गर्म हवा की आवश्यकता होती है… और न ही किसी रासायनिक कैटलिस्ट की आवश्यकता होती है।

सस्ते वेफर सुखाने हेतु उपयोग में आने वाले लैंप बल्ब।

Sat, 04 Jul 2026 12:09:01 +0800

वेफर सूखाने हेतु इन्फ्रारेड लैम्प बल्ब: उच्च प्रदर्शन, कम कीमत
हमने यह इन्फ्रारेड लैम्प बल्ब ऐसे ही डिज़ाइन किया है, ताकि यह महंगे आयातित उत्पादों का सीधा विकल्प बन सके। आपको उच्च गुणवत्ता वाले उत्पादों का ही प्रदर्शन मिलेगा, लेकिन उसकी कीमत बहुत अधिक नहीं होगी। इसका उद्देश्य उत्पादन लागत को कम करना है, बिना उत्पादन प्रक्रिया में कोई कमी आने दिए।

ऊर्जा एवं आकार – बिल्कुल सही
सटीक रूप से वेफरों को सूखाने हेतु आवश्यक है कि ऊर्जा एवं वोल्टेज सही हो। यह लैम्प 400V वोल्टेज पर काम करता है, एवं 300 मिमी लंबे ट्यूब में 2500 वाट ऊर्जा उत्पन्न करता है। यह छोटे स्थान में ही बहुत अधिक ऊर्जा उत्पन्न करता है… जो कि वेफरों से विलायकों को जल्दी से हटाने हेतु आवश्यक है। लेकिन ध्यान रखें कि 2500 वाट की ऊर्जा के कारण मशीन की शीतलन प्रणाली भी मजबूत होनी आवश्यक है। यह ऐसा लैम्प नहीं है जिसे किसी सामान्य सॉकेट में लगाया जा सके… इसके लिए अलग ही उच्च-वोल्टेज सर्किट की आवश्यकता है।

मेम्स वेफर ड्राइंग हीटर

Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800

लिथो फ्लोर पर, वेफर को धोने के बाद सूखने की प्रक्रिया में डाला जाता है। यदि तापमान में कोई बदलाव हो जाए, तो फोटोरेसिस्ट पैटर्न खराब हो सकता है। ऐसी स्थितियों से बचने हेतु हमने MEMS वेफरों को सूखाने हेतु विशेष उपकरण विकसित किए हैं… क्योंकि इस क्षेत्र में कोई अपवाद स्वीकार्य नहीं है।

क्या महत्वपूर्ण है?
हम क्वार्ट्ज-हैलोजन एमिटरों का उपयोग करके शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड ऊष्मा प्रदान करते हैं। इससे तेज़ एवं सटीक ऊष्मा प्राप्त होती है, एवं ऊष्मा का वितरण भी समान रहता है। वेफर पर तापमान की समानता ±0.1°C तक बनी रहती है, जबकि सेटपॉइंट की पुनरावृत्ति ±0.5°C के भीतर ही रहती है। इससे हर बार वेफर को सही तरीके से सूखाया जा सकता है। क्लीनरूम में इस उपकरण का उपयोग करने हेतु इसके डिज़ाइन में ही विशेष व्यवस्थाएँ की गई हैं… जैसे कि हीटर बॉडी पर पैसिवेटेड सामग्रियों का उपयोग, एवं कम कणों के उत्सर्जन हेतु विशेष वायु-प्रवाह व्यवस्था। इससे यह उपकरण क्लास 1–100 वाले वातावरण में भी कार्य कर सकता है। यह उपकरण 24 घंटे लगातार स्थिर रूप से कार्य करता है… एवं फील्ड डेटा से पता चलता है कि इसकी नियमित रखरखाव आवश्यकताएँ 5,000 घंटों से अधिक हैं, एवं हीटर से संबंधित कोई अप्रत्याशित दिक्कतें नहीं होतीं।

रिन्स करने के बाद जल्दी सूखने वाला वेफर

Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800

फैब्रिकेशन प्रक्रिया में, वॉशिंग के बाद इंतज़ार करना संभव ही नहीं है। बची हुई पानी की बूँदें कणों को आकर्षित करती हैं, जिससे फोटोरेसिस्ट प्रभावित हो जाता है। ऐसी स्थिति में लिथोग्राफी प्रक्रिया शुरू होने से पहले ही उत्पादन में कमी आ जाती है। स्पिन-ड्राइंग प्रक्रिया में समय लगता है, जिससे उत्पादन दर प्रभावित होती है, एवं अनावश्यक विविधताएँ भी उत्पन्न होती हैं। हमने ऐसी लैंपें विकसित की हैं, जिससे समय कम हो जाता है, एवं वेफर की सतह अखंडित रहती है।

पैकेजिंग से पहले अर्धचालकों को सुखाना।

Wed, 17 Jun 2026 16:30:06 +0800

पैकेजिंग लाइन पर, सफाई के बाद भी थोड़ी सी नमी ही डिलामिनेशन, वायर बॉन्ड फेल्योर आदि का कारण बन सकती है। 24/7 चलने वाली फैक्ट्रियों में थर्मल ड्रिफ्ट एवं कणों का प्रभाव “जोखिम” नहीं, बल्कि उत्पादन में बाधा बनता है। ड्राइंग प्रक्रिया तो निरंतर, स्वच्छ एवं तेज़ होनी चाहिए… हर शिफ्ट में, हर बैच में।

वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?
हम ड्राइंग प्रक्रिया को दो बातों पर आधारित बनाते हैं – वेफर स्तर पर एकरूपता, एवं क्लीनरूम के मानकों का पालन। सिस्टम, सब्सट्रेट पर ±0.1°C की सटीकता बनाए रखता है; इससे फोटोरेसिस्ट की गुणवत्ता प्रभावित नहीं होती। यह सिस्टम क्लास 1–100 के वातावरण में काम करता है, जहाँ कोई कण भी नहीं होता… इसकी जाँच इन-लाइन मॉनिटरिंग द्वारा की जाती है। घटकों की उम्र 10,000 घंटों से अधिक होती है, एवं हजारों थर्मल चक्रों में भी उत्पादन स्थिर रहता है। दोहरावी प्रक्रियाओं हेतु बंद-लूप नियंत्रण, ट्रेसेबल रेसिपीज़, एवं थर्मल-फील्ड मैपिंग आवश्यक है।