http://ir-heating-hub.com/hi/tags/%E0%A4%91%E0%A4%95%E0%A5%8D%E0%A4%B8%E0%A5%80%E0%A4%95%E0%A4%B0%E0%A4%A3/ Recent content in ऑक्सीकरण on The Infrared Heating Hub Hugo hi Tue, 23 Jun 2026 01:17:11 +0800 http://ir-heating-hub.com/hi/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Tue, 23 Jun 2026 01:17:11 +0800 http://ir-heating-hub.com/hi/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heating-hub.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="वेफर ऑक्सीकरण हीटिंग तत्व"></p> <p>थर्मल बजट, कोई सुझाव नहीं है… बल्कि यह ऐसी सीमा है जिसे तोड़ना असंभव है। ऑक्सीकरण प्रक्रिया के दौरान आधा डिग्री का भी अंतर, या किसी कोने में तापमान अधिक होना एवं दूसरे कोने में कम होना, जल्दी ही वेफर की मोटाई में कमी, लाइन-विड्थ में बदलाव, एवं उत्पादन में कमी के रूप में प्रकट होता है। इसकी कीमत लिथोग्राफी प्रक्रिया में होने वाली देरी एवं फोटोरेजिस्ट सामग्री की लागत के रूप में चुकानी पड़ती है। आवश्यकता ऐसे हीटिंग तत्वों की है, जो बैच-प्रोफाइलों में होने वाले बदलावों के बावजूद भी निर्धारित तापमान को बनाए रखें।</p>