मेम्स वेफर ड्राइंग हीटर

Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800

लिथो फ्लोर पर, वेफर को धोने के बाद सूखने की प्रक्रिया में डाला जाता है। यदि तापमान में कोई बदलाव हो जाए, तो फोटोरेसिस्ट पैटर्न खराब हो सकता है। ऐसी स्थितियों से बचने हेतु हमने MEMS वेफरों को सूखाने हेतु विशेष उपकरण विकसित किए हैं… क्योंकि इस क्षेत्र में कोई अपवाद स्वीकार्य नहीं है।

क्या महत्वपूर्ण है?
हम क्वार्ट्ज-हैलोजन एमिटरों का उपयोग करके शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड ऊष्मा प्रदान करते हैं। इससे तेज़ एवं सटीक ऊष्मा प्राप्त होती है, एवं ऊष्मा का वितरण भी समान रहता है। वेफर पर तापमान की समानता ±0.1°C तक बनी रहती है, जबकि सेटपॉइंट की पुनरावृत्ति ±0.5°C के भीतर ही रहती है। इससे हर बार वेफर को सही तरीके से सूखाया जा सकता है। क्लीनरूम में इस उपकरण का उपयोग करने हेतु इसके डिज़ाइन में ही विशेष व्यवस्थाएँ की गई हैं… जैसे कि हीटर बॉडी पर पैसिवेटेड सामग्रियों का उपयोग, एवं कम कणों के उत्सर्जन हेतु विशेष वायु-प्रवाह व्यवस्था। इससे यह उपकरण क्लास 1–100 वाले वातावरण में भी कार्य कर सकता है। यह उपकरण 24 घंटे लगातार स्थिर रूप से कार्य करता है… एवं फील्ड डेटा से पता चलता है कि इसकी नियमित रखरखाव आवश्यकताएँ 5,000 घंटों से अधिक हैं, एवं हीटर से संबंधित कोई अप्रत्याशित दिक्कतें नहीं होतीं।

एमईएमएस on The Infrared Heating Hub

मेम्स वेफर ड्राइंग हीटर