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		<title>Vite on The Infrared Heating Hub</title>
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				<title>Wafer à séchage rapide après la lampe de rinçage</title>
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				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Wafer à séchage rapide après la lampe de rinçage&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le plan de &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;fabrication&lt;/a&gt;, on ne peut pas se permettre d’attendre après le rinçage. Tout excès d’eau peut attirer des particules, provoquer un dessèchement du photo-résistant. On est donc déjà en train de perdre en productivité, avant même que la lithographie ne commence. Les &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;cycles&lt;/a&gt; de séchage par centrifugation prennent du temps, réduisent la productivité et ajoutent une variabilité inutile. Nous avons conçu une lampe à séchage rapide pour raccourcir ce temps et préserver l’intégrité de la surface de la wafer.&lt;/p&gt;</description>
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