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		<title>Oxydation on The Infrared Heating Hub</title>
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				<title>Élément chauffant par oxydation de la wafer</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Élément chauffant par oxydation de la wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En ce qui concerne le budget thermique, il ne s’agit pas d’une simple suggestion : c’est une limite que l’on ne doit absolument pas franchir. Une déviation de demi-degré pendant l’opération d’oxydation, ou un chauffage inégal dans certains coins de la pièce, se traduisent rapidement par une perte de épaisseur, des variations de largeur de ligne, et une baisse du taux de réussite du processus. Cela se traduit par des pertes de temps de fonctionnement de l’équipement de lithographie, ainsi que par des dépenses supplémentaires en matière de résistance photographique. Ce qu’il faut, c’est un élément de chauffage capable de maintenir la température désirée, même lorsque les paramètres du processus changent et que les conditions en salle &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;propre&lt;/a&gt; restent strictes.&lt;/p&gt;</description>
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