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		<title>Onde on The Infrared Heating Hub</title>
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				<title>Lampe infrarouge à ondes courtes pour CI</title>
				<link>http://ir-heating-hub.com/fr/posts/short-wave-infrared-lamp-for-ic/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 05:26:48 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Lampe infrarouge à ondes courtes pour CI&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le plan de fabrication, une wafer de 12 pouces est posée là, en &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;attente&lt;/a&gt; du processus de cuisson du photo-résiste. On sait à quel point c’est important : une variation de température de 1°C sur la surface de la wafer peut avoir des conséquences graves pour le contrôle des dimensions et la qualité du produit final. Ce dont on a besoin, c’est d’une chaleur qui agisse rapidement, sans provoquer de perturbations.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ce qui est crucial du point de vue technique&lt;/strong&gt;&#xA;Nos lampes à infrarouges à longue onde (SWIR) transmettent la chaleur directement dans le photo-résiste et le substrat – sans avoir à attendre que la chaleur se propage par convection. L’émission maximale dans cette bande infrarouge permet une absorption efficace par les films organiques et le silicium. Ainsi, il est possible d’atteindre la température souhaitée en &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;moins&lt;/a&gt; de 30 secondes. La uniformité de la température sur toute la surface de la wafer reste inférieure ou égale à ±0,1°C, et la répétabilité est supérieure à ±0,2°C d’un cycle à l’autre.&lt;/p&gt;</description>
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