در کف سنگی، ویفر پس از شستشو، وارد مرحله خشککردن میشود. حتی کمترین اختلاف دما نیز میتواند باعث تغییر در الگوی فوتورزیست شود. ما هیتر مناسبی برای خشککردن ویفرهای MEMS طراحی کردهایم تا از بروز چنین مشکلاتی جلوگیری شود؛ زیرا در این صنعت، هیچ استثنایی وجود ندارد.
عوامل مهم در عملکرد دستگاه
ما از فرکانسهای مادون قرمز برای تأمین گرما استفاده میکنیم؛ این روش باعث ایجاد گرمای سریع و متمرکز میشود، و تأخیر حرارتی نیز به حداقل میرسد. یکنواختی دما در سراسر ویفر حدود ±۰٫۱ درجه سانتیگراد است، و قابلیت تکرار دمای مورد نظر نیز در محدوده ±۰٫۵ درجه سانتیگراد است؛ بنابراین هر بار خشککردن، دقیقاً مطابق با استانداردهای مشخص شده انجام میشود. طراحی دستگاه به گونهای است که در محیطهای کلاس ۱ تا ۱۰۰ نیز کارایی خوبی داشته باشد؛ مواد استفاده شده در بدنه هیتر، مانع از تولید ذرات مضر میشوند. این دستگاه، تولید گرما را در طول شبانهروز پایدار نگه میدارد؛ دادههای مربوط به عملکرد دستگاه نشان میدهد که بین تعمیرات روتین، بیش از ۵٬۰۰۰ ساعت کار بدون هیچ مشکلی انجام میشود.
چرا این دستگاه برای MEMS مناسب است
در MEMS، خشککردن فقط به معنای بازداشتن آب از روی ویفر نیست؛ بلکه هدف، حفظ یکپارچگی ویفر قبل و بعد از فرآیند توسعه آن است. این هیتر، ویفر را به سرعت خشک میکند، بدون اینکه دما بیش از حد بالا برود؛ بنابراین الگوی فوتورزیست حفظ میشود و نیاز به تعمیرات کاهش مییابد. کنترل دقیق دما، همچنین به کاهش مصرف انرژی کمک میکند؛ زیرا انرژی کمتری برای گرم کردن ویفر مصرف میشود.
چه چیزهایی باید در زمان نصب در نظر گرفته شود
باید مشخصات مکانیکی دستگاه و شرایط سیستم خنککننده را در نظر بگیرید. ما نقشههای ابعادی و مشخصات ورودیهای دستگاه را فراهم میکنیم، اما بر عهده شماست که میزان جریان سیال خنککننده و دمای ورودی آن را بررسی کنید؛ در غیر این صورت، خطر گرم شدن بیش از حد وجود دارد. هیتر در شرایطی بهترین عملکرد را دارد که فشار و ترکیب گازهای موجود در محفظه، در محدوده مشخص شده باشد. در زمان ادغام دستگاه، باید یک آزمایش کوتاه برای بررسی یکنواختی دما انجام شود؛ این کار به تعیین دقیق دمای مورد نظر و حفظ یکپارچگی ویفر کمک میکند.