Horno on The Infrared Heating Hub

Hornoa de sala limpia _con calentador por infrarrojos

Mon, 27 Jul 2026 09:25:10 +0800

Deje de desperdiciar calor en sus hornos para wafers

En una sala limpia, desperdiciar energía no solo significa tener que pagar más por la electricidad. También representa un problema real.
Cuando se calientan los wafers de silicio, todo el calor que no llega al objetivo simplemente desaparece. Pero no desaparece del todo; se dispersa, lo que puede dañar el chasis del horno o activar las alarmas del sistema de refrigeración, lo cual interrumpe todo el proceso de producción.
Solucionamos este problema aplicando recubrimientos de oro de alta reflexividad en los calentadores infrarrojos.

Lámpara de horno para litografía de semiconductores

Fri, 03 Jul 2026 15:31:08 +0800

En la fase de litografía, el proceso de secado del fotoretino no es algo opcional: es un factor crucial para obtener resultados de calidad. Si la temperatura de secado varía o si el secado no se realiza de manera uniforme, eso genera errores dimensionales y defectos en las obleas, lo que las lleva al montón de desechos. Cuando la lámpara del horno no logra mantener una temperatura uniforme en toda la zona de secado, todo el proceso se ve afectado negativamente.

Horno de alta temperatura para laboratorio de fabricación

Mon, 01 Jun 2026 20:46:51 +0800

En planta, una variación de 1°C durante el horneado de fotoresiste no es un “desplazamiento en el ancho de línea”. Son muchas piezas descartadas. Los nodos avanzados dependen de fracciones de grado, y el horno debe respetar eso, punto.

Lo que importa, técnicamente
Diseñamos el horno de alta temperatura con una uniformidad de ±0.1°C entre el setpoint y la oblea, que se mantiene a lo largo de todo el perfil de horneado, desde el soft bake hasta el hard bake. La zona caliente está libre de cuarzo, con baja emisión de gases y utiliza un flujo de aire sellado para mantener la generación de partículas en cero bajo las condiciones de sala limpia Clase 1–100.