En el área de fabricación, no se puede permitir esperar después del enjuague. El agua que queda atrás permite la presencia de partículas y provoca la deshidratación del fotorreceptor. De este modo, ya se está en camino a perder eficiencia antes incluso de que comience el proceso de litografía. Los ciclos de secado prolongados reducen la velocidad de producción y generan variabilidad innecesaria. Por eso, hemos desarrollado una lámpara para el secado rápido de los wafers, con el fin de acortar ese tiempo y mantener la superficie intacta.
Lo que realmente importa Utilizamos luz infrarroja de onda corta y media, ajustada a la absorción del agua, de modo que la energía actúa rápidamente y sin contacto directo con la superficie del wafer. En toda la zona activa, la uniformidad térmica se mantiene dentro de ±0.1°C, lo que protege las capas del wafer de cualquier estrés. La repetibilidad de la temperatura entre diferentes ciclos también se mantiene dentro de ±0.5°C, lo que garantiza que los parámetros de secado sean consistentes.
Esta herramienta es compatible con salas limpias de clase 1 a clase 100. Hemos verificado que no se generan partículas de tamaño inferior a 0.1 micrómetros. En condiciones reales, la lámpara funciona las 24 horas del día, sin interrupciones, y su rendimiento permanece estable dentro del 2% durante más de 5,000 horas.
Por qué es útil en la fabricación Inmediatamente después del enjuague, la lámpara elimina el agua de la superficie del wafer en cuestión de segundos. Esto permite enviar el wafer directamente al horno para el secado del fotorreceptor, sin que queden gotas o manchas en su superficie. Esto reduce el tiempo necesario para el secado y evita el uso de pasos térmicos innecesarios.
Dado que el punto de partida térmico es un estado seco y consistente, los tiempos de secado se reducen. Además, se logra un mejor control sobre la espesor del fotorreceptor y una mayor selectividad en el proceso de grabado. El resultado es una mayor cantidad de wafers procesados por hora y menos desperdicios debido a la humedad.
Realidades en el campo de aplicación La lámpara requiere una fuente de alimentación de 24 VDC, adecuada para salas limpias, además de un sistema de extracción de aire especial para enfriar la cámara. Existen kits de adaptación disponibles para las principales plataformas de recubrimiento. La alineación con el sujeción del wafer es muy precisa: ±0.5 mm. Por lo tanto, es necesario contar con un ingeniero en campo para realizar la configuración inicial.
Antes de comenzar a utilizarla, planifique un tiempo de calibración de 30 minutos para determinar la uniformidad térmica en relación con su tipo específico de wafer.