Schnell trocknender Wafer nach dem Spülvorgang mit der Lampe

Sat, 20 Jun 2026 06:27:57 +0800

Auf dem Produktionsboden kann man es sich nicht leisten, nach dem Spülen noch zu warten. Jegliches verbleibende Wasser zieht Partikel an und führt dazu, dass der Fotolack seine Feuchtigkeit verliert. Dadurch wird bereits vor Beginn der Lithografie eine Verringerung der Produktivität bewirkt. Die Trocknungszyklen dauern lange, verringern die Durchsatzrate und führen zu Unregelmäßigkeiten, die man eigentlich gar nicht braucht. Wir haben daher eine Lampe entwickelt, die das Trocknen beschleunigt und die Oberfläche intakt hält.

Spülen on The Infrared Heating Hub

Schnell trocknender Wafer nach dem Spülvorgang mit der Lampe