Trocknungsheizer für MEMS Sensoren

Fri, 17 Jul 2026 08:07:33 +0800

Warum wir die Infrarottrocknung für bleifreie Halbstandards verwenden
Bei der Trocknung von MEMS-Sensorwafern stellt sich ein schwieriges Problem: Man muss jede letzte Träne an Feuchtigkeit und Lösungsmitteln entfernen – doch es darf keine Rückstände zurückbleiben. Gleichzeitig darf man das Wafer nicht mit zu viel Wärme belasten, sonst wird alles zerstört.

Deshalb nutzen wir die Infrarottrocknung. Anstatt eine ganze Raumluftmenge zu erhitzen, sendet das Infrarotlicht Energie direkt in das Substrat. Es gibt keine Konvektionsöfen, kein Vertrauen auf heiße Luft – und auch keine komplizierten chemischen Katalysatoren.

Heizer zum Trocknen von MEMS Wafern

Thu, 25 Jun 2026 05:16:28 +0800

Auf dem Gesteinboden wird die Waferplatte aus dem Spülvorgang genommen und in den Trocknungsvorgang gebracht. Ein einziger Hotspot oder eine Temperaturabweichung kann dazu führen, dass das Muster des Photoresists beschädigt wird. Deshalb haben wir einen Heizer entwickelt, der dieses Problem verhindert – schließlich darf man in diesem Bereich keine Ausnahmen machen.

Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahlen mit Quarz-Halogen-Emittern. Dadurch entsteht ein schnelles, gezieltes Wärmebild mit minimalen Temperaturunterschieden. Die Temperaturgleichmäßigkeit auf der Waferplatte bleibt bei ±0,1°C, und die Genauigkeit der Einstellungen liegt bei ±0,5°C. So wird jeder Trocknungsprozess genau nach Vorgabe durchgeführt. Die Konstruktion ist auch für Umgebungen der Klasse 1–100 geeignet: Passivierte Materialien am Heizelement sowie eine Luftstromführung, die ein Mindestmaß an Partikelabgabe sicherstellt. Der Heizer hält seine Leistung rund um die Uhr konstant – laut Felddaten sind zwischen den Wartungsarbeiten mehr als 5.000 Stunden ohne Störungen möglich.

MEMS on The Infrared Heating Hub

Trocknungsheizer für MEMS Sensoren

Heizer zum Trocknen von MEMS Wafern